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SVR 光清洗燈

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  • 型號(hào)SVR
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  • 更新時(shí)間2017-08-27
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量26
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圣威爾UV實(shí)業(yè)有限公司 Saint Will UV Industry’s Limited Company圣威爾公司建于2000年,位于首都北京南60公里的優(yōu)秀旅游城市河北省涿州市,西臨107國(guó)道,東臨京石高速,交通十分便利.本公司主要從事研發(fā)、生產(chǎn)、銷售電光源系列產(chǎn)品(紫外和紅外線光源)及印刷行業(yè)配套膠輥,以紫外技術(shù)和紅外技術(shù)服務(wù)于印刷包裝、電路板、電子、光盤(pán)、液晶、UV涂裝等行業(yè).公司擁有*的生產(chǎn)技術(shù)和*的生產(chǎn)設(shè)備,有一支高水平、高素質(zhì)的員工隊(duì)伍;依靠?jī)?yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和良好的信譽(yù)及完善的售后服務(wù)為客戶提供Z全面的產(chǎn)品和服務(wù),不斷推陳出新,迎合瞬息萬(wàn)變的市場(chǎng)需求,滿足客戶不斷更新發(fā)展的需要,正努力成為國(guó)內(nèi)UV行業(yè)的人,圣威爾愿與您攜手共同發(fā)展UV事業(yè),打造圣威爾品牌!公司理念:充分利用我們所有的UV專業(yè)技術(shù),追求真正的“Ultraviolet equipment Provider”。聚焦于客戶的需求和挑戰(zhàn),提供高質(zhì)量的UV產(chǎn)品和專業(yè)的服務(wù),持續(xù)為客戶創(chuàng)造價(jià)值。人*,客,專注UV事業(yè)!公司宗旨:以質(zhì)量求生存、以信譽(yù)求發(fā)展!我們堅(jiān)持互信、尊重、誠(chéng)實(shí),攜手實(shí)現(xiàn)共贏!核心價(jià)值觀:關(guān)注客戶,致力于每個(gè)客戶的成功;勇于進(jìn)取,敢于面對(duì)競(jìng)爭(zhēng);員工與企業(yè)共同成長(zhǎng),企業(yè)與社會(huì)共同進(jìn)步;相信客戶是Z終的裁決者,追求*,做足一百分!合作理念:以人為本,爭(zhēng)取做到人盡其才,才盡其用;尊重每一個(gè)人,公開(kāi)交流,互相理解;信賴團(tuán)隊(duì)的力量,把每一次成功都?xì)w功于一個(gè)團(tuán)隊(duì)的成功,團(tuán)隊(duì)合作,是我們,而非我!服務(wù)理念:服務(wù)為尊,誠(chéng)信是金!以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品及增值的服務(wù),追求客戶的較大滿意,努力成為客戶*的供應(yīng)合作伙伴!

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隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,清洗工藝在光電產(chǎn)品中是*的工藝,清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來(lái)越重要。目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗,它一方面能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染,同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^(guò)程縮短。
光清洗燈 產(chǎn)品詳情

光清洗燈

 

隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,清洗工藝在光電產(chǎn)品中是*的工藝,清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來(lái)越重要。目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗,它一方面能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染,同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^(guò)程縮短。

一、紫外光清洗的工作原理:

光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì),經(jīng)過(guò)光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。更詳盡的講:UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm和254nm的光波,具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力, 并在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子,這就是所謂光敏作用??諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體:二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí),使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送,上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多,其表面水接觸愈小,成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過(guò)程中,需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片制作過(guò)程中,要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作過(guò)程中,除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外,目前制程的主流是,使用Excimer Lamp,其172nm波長(zhǎng)紫外線的高反應(yīng)性質(zhì)對(duì)玻璃的清洗效率更好。

二、光清洗的特點(diǎn)light clean feature:

1、是一種摳上磾方式,可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。                  

2、可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。  3、無(wú)溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問(wèn)題。

4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。        5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度*。

6、由于光清洗是通過(guò)光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物,所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法,只適對(duì)表面污垢清洗、不適對(duì)污垢量較多,無(wú)機(jī)類污垢清洗。

三、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍light clean technology"s range of application:

 

主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過(guò)程中采用光清洗方法zui為合適。

 

主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。

 

可以去除污垢:有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。

 

此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點(diǎn),目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過(guò)程中,主要是用在膜處理技術(shù)上,對(duì)于改善膜與膜之間的密接是非常有效的,如ITO膜與感光膠膜層,TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門(mén)又可用來(lái)UV改性塑料材料產(chǎn)品,用于納米技術(shù)研究,產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過(guò)程中,有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同,差別在于制造工藝要求的不同。隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比,LCD產(chǎn)業(yè)對(duì)制造工藝的要求也不斷地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn),才能提高生產(chǎn)的質(zhì)量與效率。

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