在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)中，薄膜已有廣泛的應(yīng)用。薄膜厚度是薄膜性能參數(shù)的重要指標(biāo)，薄膜厚度儀是否均勻*是檢測(cè)薄膜各項(xiàng)性能的基礎(chǔ)。目前，膜厚儀廠家，兩類主要的薄膜測(cè)量是基于光學(xué)和探針的方法。探針法測(cè)量厚度及粗糙度是通過監(jiān)測(cè)精細(xì)探針劃過薄膜表面時(shí)的偏移。探針法在測(cè)量速度和精度上受限，并且測(cè)量厚度時(shí)需要在薄膜里作一個(gè)“臺(tái)階”。探針法通常是測(cè)量不透明薄膜（例如金屬）的方法。光學(xué)法是通過測(cè)量光與薄膜如何相互作用來檢測(cè)薄膜的特性。光學(xué)法可以測(cè)量薄膜的厚度、粗糙度及光學(xué)參量。光學(xué)參量是用來描述光如何通過一種物質(zhì)進(jìn)行傳播和反射的。一旦得知光學(xué)參量，就可以同其它重要參量（例如成分及能帶）起來。兩類zui常用的光學(xué)測(cè)量法是反射光譜法及橢圓偏光法。反射光譜法是讓光正（垂直）入射到樣品表面，膜厚儀批發(fā)，測(cè)量被薄膜表面反射回來的一定波長(zhǎng)范圍的光。橢圓偏光法測(cè)量的是非垂直入射光的反射光及光的兩種不同偏振態(tài)。一般而言，反射光譜法比橢圓偏光法更簡(jiǎn)單和經(jīng)濟(jì)，但它只限于測(cè)量較不復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。
