詳述

              量程范圍    20 m（max）

          過程溫度     -40℃~200℃   

          過程連接          DN50      

               過程壓力      -1~16 bar   

特性

不受各種復(fù)雜工況的影響，如表面的強烈波動、泡沫、水汽及粉塵的干擾。

采用“空罐預(yù)處理”技術(shù)，正確識別真實目標回波，獲取正確的測量結(jié)果。

非接觸式測量，避免對被測物料的影響。

無活動、無易磨損部件，無需經(jīng)常清潔、保養(yǎng)、調(diào)試。

K-band雷達波束角小，能量集中，具有更強的抗*力，提高了測量精度和可靠性。

Technical information

Continuous / Liquids

Measuring Principle                              radar ranging

Characteristic / Application               Premium device for continuous non-contact

                                                         level measurement, in which aggressive media 

                                                         are used as well as for highest hygiene requirements;

                                                         Flush mounted, fully PTFE filled horn antenna PTFEE

Supply / Communication                          2-wire (HART),4-wire (HART)

Frequency                                        K-band (~26 GHz)

Accuracy                                          +/- 3 mm 

Ambient temperature                              -40~+70 °C

Process temperature                             -40~+200 °C

Process pressure min/max                        Vacuum...16 bar

Main wetted parts                               PTFE

Process connection                               Flange:DN50...DN100

Output                                             4~20 mA HART 

Approvals                                         Consult factory

Options                                             Display

                                                      Gas-tight feed through

Application limits                                Maximum measuring range is dependent 

on the tank form or application