氮化硼濕法粉碎機(jī)、高速分散機(jī)、石墨烯晶格濕法粉碎機(jī)、BN高速濕法粉碎機(jī)、德國(guó)高速濕法粉碎機(jī)、研發(fā)型濕法粉碎機(jī)、中試型濕法粉碎機(jī)、微型濕法粉碎機(jī)、小型分散設(shè)備
氮化硼是由氮原子和硼原子所構(gòu)成的晶體?；瘜W(xué)組成為43.6%的硼和56.4%的氮，具有四種不同的變體：六方氮化硼（HBN)、菱方氮化硼（RBN）、立方氮化硼(CBN)和纖鋅礦氮化硼(WBN)。
其物質(zhì)的結(jié)構(gòu)特征為氮化硼六方晶系結(jié)晶，zui常見為石墨晶格，也有無定形變體，除了六方晶型以外，碳化硼還有其他晶型，包括：菱方氮化硼(簡(jiǎn)稱：r—BN，或稱：三方氮化硼，其結(jié)構(gòu)類似于h—BN，會(huì)在h—BN轉(zhuǎn)化為c—BN的過程中產(chǎn)生)、立方氮化硼[簡(jiǎn)稱：c—BN，或|3一BN，或z-BN(即閃鋅礦型氮化硼)，質(zhì)地非常堅(jiān)硬]、纖鋅礦型氮化硼(簡(jiǎn)稱：w—BN，h—BN高壓下的一種堅(jiān)硬狀態(tài))。人們甚至還發(fā)現(xiàn)像石墨稀一樣的二維氮化硼晶體(類似的還有MoS：二維晶體)。
所謂結(jié)構(gòu)決定性能，性能決定應(yīng)用，六方氮化硼具備的多種特性，使得它被廣泛應(yīng)用于高科技領(lǐng)域。如：制備立方氮化硼、陶瓷制品、導(dǎo)熱塑料、顏料、精密鑄造脫模劑、透波材料、化妝品、芯片散熱材料等。
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白色石墨烯的制備是采用化學(xué)氣相沉積（CVD）方法制備出單原子層高質(zhì)量石墨烯/六方氮化硼平面異質(zhì)結(jié)。
做為濕法粉碎機(jī)行業(yè)中的*，上海依肯機(jī)械設(shè)備自主生產(chǎn)研發(fā)的21000轉(zhuǎn)超高速濕法粉碎機(jī)能夠以高出國(guó)內(nèi)普通濕法粉碎機(jī)18000轉(zhuǎn)的速度對(duì)白色石墨烯（六方氮化硼粉末）進(jìn)行進(jìn)一步的濕法分散、剪切，使其粒徑更加的均勻、粒徑分布范圍更加狹窄，得到的乳液穩(wěn)定性更強(qiáng)，從而能夠應(yīng)用在更加精密的研究和新產(chǎn)品的開發(fā)中。
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影響納米材料分散要素：
1、分散介質(zhì)
（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。
（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。
（3）水性介質(zhì)中，*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。
3、分散設(shè)備
上海IKN（依肯）機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開發(fā)的高剪切四級(jí)濕法粉碎機(jī)ERS2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。氮化硼濕法粉碎機(jī)、高速剪切分散機(jī)、石墨烯晶格濕法粉碎機(jī)、BN高速濕法粉碎機(jī)、德國(guó)高速濕法粉碎機(jī)、研發(fā)型濕法粉碎機(jī)、中試型濕法粉碎機(jī)、微型濕法粉碎機(jī)、小型分散設(shè)備
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IKN四級(jí)濕法粉碎機(jī)能夠高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的 過程。而在通常情 況下各個(gè)相是互不相溶的。當(dāng)外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng) 能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散乳化，經(jīng)過高頻管線式高剪切均質(zhì)機(jī)的循環(huán)往復(fù)，zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
從設(shè)備角度分析，影響分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)：
1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散腔體的停留時(shí)間，分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
LP2000/4中試型濕法粉碎機(jī)：專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且均質(zhì)頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到zui低。
LP2000/4中試型高剪切濕法粉碎機(jī)技術(shù)參數(shù)
馬達(dá) | 1.5KW或2.2KW |
真空/壓力 | -/2.5bar |
分散頭轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
線速度 | 0-44m/s |
尺寸（長(zhǎng)寬高） | 450*250*350mm |
重量 | 約35Kg |
可配模塊 | EDL/ER/ERS/CM/CMO/PLD/PLC |
設(shè)備的選型要點(diǎn)：
1、明確使用設(shè)備所需達(dá)到的效果和目的
2、詳細(xì)了解并掌握研究物料的性質(zhì)（包括物理、化學(xué)性質(zhì)）
3、根據(jù)物料對(duì)設(shè)備的攪拌機(jī)進(jìn)行選型
4、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
5、綜合考慮設(shè)備的成本
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