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  • SE-L型自動(dòng)光譜橢偏儀

SE-L型自動(dòng)光譜橢偏儀

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地武漢市
  • 更新時(shí)間2020-02-01
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限8
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量20
  • 人氣值4124
產(chǎn)品標(biāo)簽

橢偏儀

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  武漢頤光科技有限公司(Wuhan Eoptics Technology Co,Ltd)是一家專業(yè)從事光學(xué)儀器設(shè)備研發(fā)及光機(jī)電產(chǎn)品制造、銷售的*。公司由一批歸國留學(xué)人員創(chuàng)辦,與華中科技大學(xué)緊密合作,現(xiàn)有員工80%以上擁有碩士或博士學(xué)位,是光學(xué)儀器設(shè)備領(lǐng)域*技術(shù)優(yōu)勢的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。

 

       頤光科技注冊于武漢東湖國家自主創(chuàng)新示范區(qū),立足光谷,面向,為用戶提供光學(xué)散射測量儀等系列產(chǎn)品,并提供儀器、軟件、服務(wù)等綜合解決方案。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體、光伏太陽能、平板顯示、LED照明、存儲(chǔ)、生物、醫(yī)藥、化學(xué)、電化學(xué)、光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、減反膜、光刻材料等眾多領(lǐng)域。

 

      頤光科技充分利用武漢地區(qū)的交通便利和人才優(yōu)勢,立志成為中國*秀的光學(xué)儀器設(shè)備研發(fā)創(chuàng)新平臺(tái)和產(chǎn)業(yè)化基地,立志成為企業(yè)值得信賴的合作伙伴。

   

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產(chǎn)地國產(chǎn) 加工定制
自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型是一款科研級全自動(dòng)高精度光譜橢偏儀,集眾多頤光科技技術(shù)于一體,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)測量模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實(shí)現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。
SE-L型自動(dòng)光譜橢偏儀 產(chǎn)品詳情

自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型

自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型概述: 

自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型是一款科研級全自動(dòng)高精度光譜橢偏儀,集眾多頤光

科技技術(shù)于一體,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)測量

模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實(shí)現(xiàn)光

學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。

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  • 納米測量光學(xué)橢偏測量解決方案

  • 緊湊集成設(shè)計(jì),使用簡便,一鍵快速測量

  • 向?qū)Ы换ナ饺藱C(jī)界面,便捷的軟件操作體驗(yàn)

  • 豐富的材料數(shù)據(jù)庫和算法模型庫,強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析能力

    自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型產(chǎn)品特點(diǎn): 

  • 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-1700nm);

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  •  高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置,實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集;

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  • 配置全自動(dòng)測量技術(shù) , 基于行業(yè)電機(jī)控制技術(shù),全自動(dòng)調(diào)整測量角度,高精度控制樣件臺(tái),實(shí)現(xiàn)樣件快速自動(dòng)對準(zhǔn)找焦;

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  •  數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料;

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  •  強(qiáng)大軟件應(yīng)用分析能力,針對半導(dǎo)體、集成電路、新型平板顯示、薄膜光伏等領(lǐng)域中材料的厚度、光學(xué)常數(shù)、結(jié)構(gòu)信息等數(shù)據(jù)通過建模擬合進(jìn)行全面的快速分析;

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     自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型產(chǎn)品應(yīng)用:

    SE-L  型光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應(yīng)用,  實(shí)現(xiàn)光學(xué)薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析:

1、  半導(dǎo)體:半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)(如:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaNAlGaN、透明的電子器件等),半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)(如納米光柵,套刻誤差,T型相變存儲(chǔ)器等);

2  平板顯示:TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等;

3、  光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等)反射率,消光系數(shù)測量,膜層厚度及表面粗糙度測量等;

4、  生物和化學(xué)工程:有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等。

5、  塊狀材料分析:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數(shù)k表征,玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。

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自動(dòng)光譜橢偏儀SE-L型技術(shù)參數(shù):

基本功能

全自動(dòng)化/高精度,通過橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的快速測量

光譜范圍

3800nm-1000nm(支持紫外擴(kuò)展至200nm,紅外擴(kuò)展至1700nm)

測量時(shí)間

1-5s

入射角范圍

45-90°

微光斑尺寸

200μm

重復(fù)性測量精度,100nm SiO2硅片(30次測量,1σ)

0.01nm

支持樣件zui大尺寸

200mm*200mm

樣品臺(tái)調(diào)節(jié)

高度:0-15mm(自動(dòng))

俯仰:±3°

XY:±12.5mm

Rz:0-360°(粗調(diào))

±3°(精調(diào),分辨率:0.05°)

軟件

多語言界面切換

多達(dá)數(shù)千種的光學(xué)材料常數(shù)數(shù)據(jù)庫,并支持用戶自定義光學(xué)材料庫

提供多層各向同性光學(xué)薄膜建模仿真與分析功能

提供多層各向異性光學(xué)薄膜建模仿真與分析功能

提供多層周期性光柵結(jié)構(gòu)建模仿真與分析功能

 

關(guān)鍵詞:橢偏儀 激光二極管
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