高剪切石墨烯濕法研磨機(jī)，液相剝離單層石墨設(shè)備，機(jī)械法制備石墨烯設(shè)備，小型研發(fā)研磨分散機(jī)，立式高剪切研磨分散機(jī)，流體漿料高效膠體磨，中試型高速研磨分散機(jī)，循環(huán)式降溫研磨設(shè)備，耐有機(jī)溶劑研磨分散機(jī)，防腐蝕高速研磨分散機(jī)

上海依肯公司的研磨分散設(shè)備（CMSD）目前已廣泛應(yīng)用于石墨烯、碳納米管、鱗片石墨、蠕蟲石墨、活性炭等碳材料中，在鋰電池、光伏材料、光催化材料、醫(yī)藥等多重領(lǐng)域上應(yīng)用顯zhu，客戶遍布全國(guó)各省市，客戶群體包括各大藥企、科研機(jī)構(gòu)、新興企業(yè)、民營(yíng)企業(yè)、國(guó)營(yíng)及事業(yè)單位，更有包括帝斯曼、泰萊、奇華頓等多跨國(guó)企業(yè)。詳詢上海依肯 林萬翠

上海依肯CMSD2000系列研磨分散機(jī),可以很好的解決顆?；蚍垠w漿料易團(tuán)聚、分散細(xì)化不均勻等問題，其已廣泛應(yīng)用于石墨烯、碳納米管、活性炭、納米粉體、高分子材料等多種新材料的制備應(yīng)用上。CMSD2000系列的膠體磨（錐體磨）分散頭的組合,可以先將物料（配入溶劑和分散劑）研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過分散頭,進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。

.CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

適用工藝：CMSD研磨分散機(jī)適用于高精細(xì)度的分散、均質(zhì)、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。詳詢上海依肯 林萬翠

IKN研磨分散機(jī)綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達(dá)0.02～50微米，均質(zhì)度達(dá)90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。該機(jī)適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類產(chǎn)品的xian進(jìn)水平。

CMSD2000系列高剪切石墨烯濕法研磨機(jī)設(shè)備選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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