產(chǎn)品類型：NJD2－1型微波氣相沉積機(jī)
產(chǎn)品描述
NJD2－1型微波氣相沉積機(jī)
等離子體面積：Φ40mm×2
沉積室：0.4×0.5m、氣體通道4路
氣相沉積技術(shù)是利用氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術(shù)按照成膜機(jī)理，可分為化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。
化學(xué)氣相淀積[CVD(Chemical Vapor Deposition)]，指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。
物理氣相沉積是通過蒸發(fā)， 電離或 濺射等過程，產(chǎn)生金屬 粒子并與反應(yīng)氣體反應(yīng)形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空 濺射和離子鍍三種，目前應(yīng)用較廣的是離子鍍。
