功能特點：
化學氣相沉積CVD系統(tǒng)由高溫管式爐，真空壓強控制系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，過壓保護及冷凝等部分組成，可實現(xiàn)真空達0.1mbar混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
產(chǎn)品用途：
化學氣相沉積CVD系統(tǒng)適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產(chǎn)品參數(shù)

• 機器電源：AC220V，50/60Hz；
• 額定功率4kw
• 爐管：高純石英管，高溫下化學穩(wěn)定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數(shù)極小，能承受驟冷驟熱的溫度變化；
• 爐管尺寸：Φ80*/1000mm
• 加熱元件：0Cr27Al7Mo2
• 加熱區(qū)長度：300mm
• 恒溫區(qū)長度：150mm
• 工作溫度：≤1150℃
• 升溫速率：≤10℃/min
• 溫控系統(tǒng)：溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能、30段升降溫程序
• 測溫元件：N型熱電偶
• 恒溫精度：±1℃
• 保護及提醒：超溫、斷偶故障警報及斷電保護、高精度質(zhì)量流量計通過數(shù)據(jù)接口連接電腦，配置軟件實時人機交互界面
• 混氣系統(tǒng)：四通道質(zhì)量流量控制，可同時通入四種不同氣體、內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥、每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥
• 流量規(guī)格：0~30SLM
• 控制精度：±1.0％F.S
• 真空系統(tǒng)：采用德國vacuubrand MV2NT VARIO四級隔膜泵，無極調(diào)速，實現(xiàn)負壓的精準控制、極限真空度可達0.1mbar、配置氣體尾氣處理系統(tǒng)
• 冷凝系統(tǒng)：采用低溫恒溫槽，低溫度可達-20℃、內(nèi)置不銹鋼真空冷凝灌，采用KF接頭，清理收集方便、槽內(nèi)冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內(nèi)直接進行低溫、恒溫實驗