痕量低濃度氮氧化物分析儀其核心部分是一個(gè)激光檢測(cè)裝置，其中的氦氖激光器可以發(fā)射一種安全的低功率單波激光到一個(gè)氣體測(cè)試腔內(nèi)。由于激光能量微弱，裝置內(nèi)部通過(guò)檢測(cè)腔兩端的反射鏡不斷進(jìn)行反射，將能量放大1000倍左右。光子與氣體分子發(fā)生碰撞后發(fā)生散射，產(chǎn)生一種不同于激光頻譜的光譜，而且不同分子散射出來(lái)的光譜是特定不相同的，這就是我們所稱的“拉曼散射光譜”。檢測(cè)腔內(nèi)壁裝有8個(gè)光學(xué)濾波器和光電傳感器，用來(lái)吸收和檢測(cè)不同分子的特定光譜頻率，從而得到8種不同待測(cè)氣體成分含量。根據(jù)這種原理，每種待測(cè)氣體的含量都是通過(guò)直接測(cè)量得到的，不需要任何的導(dǎo)算；RLGA的檢測(cè)精度更高；反應(yīng)速度更快.

分析儀根據(jù)Lambert-Beer定律，并采用NDIR（非色散紅外）原理，可選擇性在波長(zhǎng)2-9um范圍內(nèi)測(cè)量多種組分，例如：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，甲烷，一氧化氮以及一些簡(jiǎn)單碳?xì)浠衔铩?/span>

多應(yīng)用于存在化學(xué)反應(yīng)的生產(chǎn)過(guò)程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應(yīng)環(huán)境以外，還需要使用氣體分析儀表來(lái)分析進(jìn)氣的化學(xué)成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產(chǎn)效率。在鍋爐燃燒控制中也起到了非常重要的作用。

痕量低濃度氮氧化物分析儀

質(zhì)譜分析法是利用不同離子在電場(chǎng)或者磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)軌跡的不同，把離子按質(zhì)荷比分離而得到質(zhì)量圖譜，可以得到樣品的定性定量結(jié)果。質(zhì)譜儀按照常用的質(zhì)量分離器不同可分為掃描磁扇式磁場(chǎng)質(zhì)譜儀和四極質(zhì)譜儀，飛行時(shí)間質(zhì)譜儀等幾種類型。目前工業(yè)應(yīng)用上通常采用的是掃描磁扇式質(zhì)譜儀。四極質(zhì)譜儀的靈敏度高，適合實(shí)驗(yàn)室或科學(xué)研究。掃描磁扇式的穩(wěn)定性和重復(fù)性較高，適合工業(yè)應(yīng)用。

不僅在一臺(tái)氣體分析儀器內(nèi)部具備一套化工工藝過(guò)程的同樣情況和條件，而且，有時(shí)在儀器前級(jí)的樣氣預(yù)處理部分（含取樣系統(tǒng)）也同樣是一套化工工藝過(guò)程。如遇到較復(fù)雜、較特殊的工藝技術(shù)條件的話，那么樣氣預(yù)處理系統(tǒng)所體現(xiàn)的化工過(guò)程還是非常復(fù)雜的，相當(dāng)于一個(gè)小化工廠的凈化處理工藝過(guò)程。由此可見(jiàn)，氣體分析的過(guò)程就是在了解并掌握整個(gè)化工過(guò)程系統(tǒng)條件的前提下，嚴(yán)格控制各種影響測(cè)定條件的因素，從而得到工藝及管理人員所需要的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。

    在儀器應(yīng)用的過(guò)程中，影響因素種類較多且變化較復(fù)雜，而要想有效地控制這些影響因素及排除干擾測(cè)定的因素則困難比較大。例如微量氧的測(cè)定，不但要嚴(yán)格控制系統(tǒng)材質(zhì)和密封，而且系統(tǒng)的潔凈等諸多因素也必須逐一解決好，否則，氧成分分析不會(huì)得到準(zhǔn)確的測(cè)定結(jié)果。而對(duì)于氣體中微量水含量的測(cè)定，除了考慮以上提到的各種影響因素外，還必須考慮到樣氣中的水在管道內(nèi)的吸附平衡問(wèn)題，而這一問(wèn)題的妥善處理必須依靠反復(fù)試驗(yàn)，了解其變化情況和規(guī)律，掌握其中的操作技術(shù)，以便得到準(zhǔn)確無(wú)誤的結(jié)果。