概論：光譜型參比橢偏儀

橢偏技術(shù)對(duì)表界面非常敏感，百年來(lái)一直被用于各種薄膜的光學(xué)分析測(cè)量。它的基本原理是，當(dāng)一束偏振光經(jīng)過(guò)樣品表界面反射之后偏振狀態(tài)會(huì)發(fā)生變化。并且，如果樣品表面是一層薄膜（或者多層薄膜堆疊），整個(gè)薄膜/基底的光學(xué)系統(tǒng)信息對(duì)反射光束的偏振狀態(tài)都有影響。因此，通過(guò)橢偏方法可以對(duì)薄膜的厚度和其他性質(zhì)進(jìn)行分析。

參比橢偏儀Nanofilm_RSE是一種特殊類(lèi)型的橢偏儀，它通過(guò)將參比樣品被和測(cè)樣品進(jìn)行比較，測(cè)量它們之間的差異從而對(duì)被測(cè)樣品進(jìn)行橢偏分析。由于參比橢偏儀Nanofilm_RSE光學(xué)系統(tǒng)的精巧設(shè)計(jì)，在測(cè)量過(guò)程中沒(méi)有任何需要轉(zhuǎn)動(dòng)或者調(diào)制的光學(xué)部件，并且可以在單次測(cè)量中獲得完整的、高分辨率的光譜橢偏數(shù)據(jù)。通常每秒鐘可以測(cè)量獲得上百個(gè)光譜橢偏數(shù)據(jù)。通過(guò)配備同步的X/Y二維自動(dòng)樣品臺(tái)可以在數(shù)分鐘內(nèi)測(cè)量獲得大面積樣品的薄膜厚度分布圖。

儀器特點(diǎn)：光譜型參比橢偏儀

該儀器光路設(shè)計(jì)巧妙、穩(wěn)定性好、測(cè)量精度高。測(cè)量速度超快，可快速測(cè)量大面積樣品厚度分布，適用于質(zhì)量檢測(cè)等需要測(cè)量大批量樣品的領(lǐng)域。參比樣品更換簡(jiǎn)單（三個(gè)參比樣品組覆蓋絕大部分應(yīng)用）。簡(jiǎn)單易用，使用者無(wú)需對(duì)橢偏技術(shù)有深入了解。適用于晶圓檢測(cè)/太陽(yáng)能電池組分析、缺陷檢測(cè)/污染控制，均質(zhì)石墨烯薄膜測(cè)量，薄膜生長(zhǎng)過(guò)程控制/動(dòng)態(tài)測(cè)量等等。