昆山國(guó)華等離子清洗機(jī)設(shè)備使用什么氣體

等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

等離子體按照氣體來(lái)分可分為以下兩種：
活潑氣體和不活潑氣體等離子體：根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用氣體的化學(xué)性質(zhì)不同， 可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮?dú)?（N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）和空氣等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2） 等，不同類型的氣體在清洗過(guò)程中的反應(yīng)機(jī)理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性。不同特性的氣體，它們用于清洗的污染物也須有不同選擇。 當(dāng)一種氣體滲入一種或多種額外氣體時(shí)，這些元素的混合氣體組合，能產(chǎn)生我們所希望的蝕刻與清洗效果。借助等離子電漿中的離子或高活性原子，將表面污染物撞離或 形成揮發(fā)性氣體，再經(jīng)由真空系統(tǒng)帶走，達(dá)到表面清潔的目的。等離子體形成過(guò)程，在高頻電場(chǎng)中處于低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮?dú)?、甲烷、水蒸氣?氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運(yùn)動(dòng)的原子和分子。這樣產(chǎn)生的電子在 電場(chǎng)中加速時(shí)會(huì)獲得高能量，并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，結(jié)果使分子和原子中又 激發(fā)出電子，而本身又處于激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，這時(shí)物質(zhì)存在的狀態(tài)即為等離子體狀 態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還存在受到能量激勵(lì)狀態(tài)的電中性的 原子或原子團(tuán)（又稱自由基），以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長(zhǎng)短、能量的高低在等離子體與物質(zhì)表面相互作用時(shí)有著重要作用。

氮?dú)庾鳛橐环N不活潑氣體，在等離子體清洗的過(guò)程中，主要作為非反應(yīng)性氣體，氮等離子處理能提高材料的硬度和耐磨性。在某些情況下氮?dú)庖材茏鳛橐环N反應(yīng)性氣體，形成氨的化合物。更多的情況下等離子清洗機(jī)中使用氮?dú)膺€是用作一種非反應(yīng)性氣體。

  等離子清洗機(jī)由于其自身的特點(diǎn)在很多產(chǎn)品生產(chǎn)的過(guò)程中都有一席用武之地。在等離子清洗機(jī)工作清清洗的過(guò)程中，需要配合著不同的氣體，才能將等離子清洗機(jī)的清洗效果達(dá)到好。

昆山國(guó)華等離子清洗機(jī)設(shè)備使用什么氣體

  按氣體分成：多使用的氣體之一就是惰性氣體氬氣（Ar），真空腔清洗過(guò)程中配合氬氣（Ar）往往可以有效得去除表面納米級(jí)污染物。經(jīng)常應(yīng)用在引線鍵合，芯片粘接銅引線框架，PBGA等工藝中。
  如果想增強(qiáng)腐蝕效果，就請(qǐng)通入氧氣（O2）。通過(guò)配合氧氣（O2）在真空腔清洗，可有效的去除有機(jī)污染昆山國(guó)華等離子清洗機(jī)設(shè)備使用什么氣體物，比如光刻膠等。通入氧氣（O2）比較多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工藝。
 還有一些比較難去除的氧化物可利用氫氣（H2）配合清洗，條件是要在密閉性非常好的真空情況下使用。還有一些特殊氣體類似于四氟化碳（CF4），六氟化硫（SF6）等，蝕刻和去除有機(jī)物的效果會(huì)更加顯著。但這些氣體的使用前提是要有耐腐蝕氣路和腔體結(jié)構(gòu)，另外自己要戴好防護(hù)罩和手套才能工作。
 后要說(shuō)的一種常用氣體就是氮?dú)猓∟2）。這種氣體主要是配合在線式等離子對(duì)材料表面活化和改性的應(yīng)用。當(dāng)然真空環(huán)境下也可以使用。氮?dú)猓∟2）是提高材料表面侵潤(rùn)性的*。
 現(xiàn)在等離子清洗機(jī)通常為2路氣體，有時(shí)候我們會(huì)嘗試讓氣體去組合比例配合清洗，來(lái)達(dá)到不一樣的效果！