低溫等離子＋UV光氧催化一體機(jī) 除臭設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)
設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，安裝簡(jiǎn)單。
友好的人機(jī)界面、智能化的控制，操作和維護(hù)簡(jiǎn)便易行。
留有計(jì)算機(jī)接口，方便聯(lián)入中控室控制、操作。
可與設(shè)備聯(lián)動(dòng)，只需運(yùn)行設(shè)備，除異味裝置即可聯(lián)動(dòng)。
一次性投資，資金適中。
設(shè)備功耗低，運(yùn)行時(shí)只需電和少量的水;運(yùn)行費(fèi)用極低。
設(shè)備可以靈活組合，根據(jù)不同廢氣進(jìn)行不同的組合。
處理后的終產(chǎn)物為二氧化碳和水，無二次污染。
光催化技術(shù) | 利用光催化劑與揮發(fā)性有機(jī)物接觸，催化劑在受到光照后產(chǎn)生電子空穴對(duì)，經(jīng)過氧化等反應(yīng)在表面生成二氧化碳、水等 | 適用范圍廣，處理氣味效果好，適用于較低濃度的有機(jī)氣體凈化 | 如果整套系統(tǒng)只采用光催化技術(shù)，成本較高 |
等離子技術(shù) | 利用氣體放電過程中所產(chǎn)生的等離子體中的高能電子，去破壞揮發(fā)性氣體分子中原有的結(jié)構(gòu)，從而改變其性狀；同時(shí)產(chǎn)生離子、激發(fā)態(tài)的原子等活性基團(tuán)，這些活性基團(tuán)也作用在揮發(fā)性有機(jī)氣體的分子及其碎片上，起到離解、電離或者直接降解vocs的作用，使vocs的大分子理解成二氧化碳、水等小分子 | 凈化效果好，對(duì)成分復(fù)雜的廢氣依然具有良好的凈化效果，適用于較低濃度的有機(jī)氣體凈化 | 不適用于高濃度廢氣凈化，且單獨(dú)使用時(shí)需要定期維護(hù) |
低溫等離子＋UV光氧催化一體機(jī) 除臭設(shè)備適用行業(yè)及范圍
噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體
