UV光氧活性炭一體機 低溫等離子除臭設(shè)備簡介
UV光解活性炭一體機結(jié)合了UV光解氧化技術(shù)和活性炭吸附，相比分開的兩種設(shè)備，凈化效率更高，成本降低，可以處理多種有機廢氣和惡臭廢氣，如：醇類、醛類、苯類、氨氣等等有機廢氣和惡臭廢氣。
光氧化活性炭一體機
一：UV光氧活性炭一體機 低溫等離子除臭設(shè)備簡介
UV光解活性炭一體機結(jié)合了UV光解氧化技術(shù)和活性炭吸附，相比分開的兩種設(shè)備，凈化效率更高，成本降低，可以處理多種有機廢氣和惡臭廢氣，如：醇類、醛類、苯類、氨氣等等有機廢氣和惡臭廢氣。
UV光解氧化技術(shù)
光解氧化是指在一定波長光照條件下,半導體材料發(fā)生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結(jié)合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機物大分子降解為二氧化碳或其他小分子有機物以及水,在反應過程中這種半導體材料也就是光解劑本身不發(fā)生變化。 HJUV---系列TiO2光解催化氧化設(shè)備是我公司根據(jù)國內(nèi)外廢氣處理設(shè)備的*技術(shù)并在我公司多年生產(chǎn)光解催化氧化設(shè)備的基礎(chǔ)上，改進的新一代TiO2光解催化氧化設(shè)備， 本產(chǎn)品利用UV紫外線技術(shù)(波段184.9nm-253.7nm)，產(chǎn)生臭氧，游離活性氧離子。通過高能紫外線光破壞降解分子鍵及協(xié)同分解氧化反應去除有機污染物。
當化學物質(zhì)通過吸收能量(如熱能、光子能量等)，可以使自身的化學性質(zhì)變得更加活躍甚至被裂解。當吸收的能量大于化學鍵鍵能，即可使得化學鍵斷裂，形成游離的帶有能量的原子或基團。當波段內(nèi)的真空紫外線(波長范圍內(nèi)184.9nm-253.7nm)，促使有機廢氣物質(zhì)通過吸收該波段的光子，而該波段的光子能量大于絕大多數(shù)的化學鍵鍵能，使得有機物質(zhì)得以裂解;再通過裂解產(chǎn)生的臭氧將其氧化成簡單、無害、穩(wěn)定的物質(zhì)，如H2O和CO2等。
活性炭吸附技術(shù)
廢氣經(jīng)過吸附塔內(nèi)的初效過濾器除去固體顆粒物后，進入塔體，經(jīng)過活性炭層吸附后，除去氣體中的有機廢氣分子，達到符合排放標準的凈化氣體，經(jīng)風機排到室外
二：UV光氧活性炭一體機 低溫等離子除臭設(shè)備的特點：
1.占地面積小，體積小，自重輕。
2.結(jié)構(gòu)簡單，便于維護。
3.無需人工看管，可連續(xù)24小時運行。
4.無需要添加任何化學物質(zhì)，開機即可運行廢氣。
5.可以同時處理多種類型的廢氣。
三：UV光解活性炭一體適用于
塑料造粒廠、注塑機、化工廠、石油廠、制藥廠、油墨廠、印染廠、印刷廠等有機廢氣和惡臭氣體的企業(yè)。
