NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述: 帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能,zui大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),zui大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。 系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。 通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體 ,2個(gè)2"的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監(jiān)測(cè)儀(選配)。 由于NSC-1000的空間有限,我們不能在NSC-1000系統(tǒng)上提供更多的電源和磁控管。 我們可以提供我們的NSC-1000系統(tǒng),用于SEM應(yīng)用,也可以用于濺射金屬到zui大6"的晶圓片。
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn):
- 不銹鋼, 鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
- 70l/s的渦輪分子泵,串接機(jī)械泵或干泵
- 1KW DC直流電源
- 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
- 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
- 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
- 帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問(wèn)控制
- *的安全聯(lián)鎖功能
選配項(xiàng):
- Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測(cè)
應(yīng)用:
- SEM應(yīng)用
- 濺射金屬,zui大到6" 的晶圓片