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上海伯東代理美國霍爾離子源 eH 400

參考價訂貨量

360000

≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時間2023-01-10
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3359
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟和社會的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時,提供全伯東集團網(wǎng)絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

 

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產(chǎn)地進口 加工定制
上海伯東代理美國* KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
上海伯東代理美國霍爾離子源 eH 400 產(chǎn)品詳情

價格電議

KRI 霍爾離子源 eH 400

上海伯東代理美國* KRI

霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.

尺寸: 直徑= 3.7“  高= 3”

放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體



KRI 霍爾離子源 eH 400 特性
可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)
高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 400 技術(shù)參數(shù):

型號

eH 400 / eH 400 LEHO

供電

DC magnetic confinement

- 電壓

40-300 V VDC

- 離子源直徑

~ 4 cm

- 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-3005A

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

- 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

- 陽極

標準或 Grooved

- 水冷

前板水冷

- 底座

移動或快接法蘭

- 高度

3.0'

- 直徑

3.7'

- 加工材料

金屬

電介質(zhì)

半導體

- 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

- 安裝距離

6-30”

- 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 400 應用領域:
離子輔助鍍膜 IAD
預清潔 Load lock preclean
In-situ preclean
Low-energy etching
III-V Semiconductors

• Polymer Substrates


霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產(chǎn)品, 包含寬束霍爾離子源和電源控制器, 整體設計, 易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預清潔 ISSP, 離子蝕刻等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東 : 羅先生                                



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