產(chǎn)品關鍵詞概述:沉淀活性二氧化硅研磨分散機,疏水活性白炭黑研磨分散機,高速研磨分散機,高剪切研磨分散,研磨均質一體機,分體式研磨分散機
沉淀(活性)二氧化硅=疏水(活性)白炭黑
產(chǎn)品特性:
疏水白碳黑是一種多孔性無定型二氧化硅,呈白色粉末狀,其初生粒徑為納米顆粒,zui細之產(chǎn)品如SH-107的zui終粒徑2~3um,它和橡膠、塑料、涂料混和后,能使產(chǎn)品具有各種良好的物理性能,它作為天然橡膠及人造橡膠淺色制品的良好填充劑,一方面減少橡膠的用量,降低成本,另一方面能提高橡膠制品的硬度,耐磨性,減少變形,增加耐油性;用于乳膠塑料皮革,輕質材料制品中,則易于脫膜和成型,減輕制品的重量;用于電線電纜中,能提高其絕緣性能;用于油漆油墨中,則是良好的增稠劑;用于涂料則具有的耐高溫性能,因而本品被廣泛用于橡膠、塑料、制革、油漆、體育文化用品等行業(yè)。
應用領域:
疏水白炭黑具有*的表面活性,在某些橡膠制品中具有透明、半透明性質;特別適宜做淺色、艷色、透明、半透明橡膠制品。此外,可作為乳膠的隔離劑、油漆油墨的防沉劑、增稠劑、觸變劑,各種塑料薄膜的張口劑;農(nóng)藥顆粒劑、分散劑;粘合劑材料和輕質材料制品以及牙膏磨料等,并可用于中高檔原子灰系列產(chǎn)品。
技術指標:
項 目 | 指 標 |
二氧化硅含量% ≥ | 99 |
白度 | 95 |
篩余物(45um)%≤ | 0.5 |
加熱減量% | 4.0-8.0 |
灼燒減量(1000℃)% ≤ | 5.0 |
PH值(10%水懸浮液) | 5.0-8.0 |
視比重(1000轉/分.20分鐘)(g/mL) ≤ | 0.24 |
比表面積(m2/g) | 125-210(400目的為125;800目的為175;1250目的為185;6000目的為210) |
表面改性處理 | 根據(jù)客戶的需要
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上海思峻研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
GMD2000有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。