API 3200™ LC/MS/MS系統(tǒng)
更高性能更高通量更高價(jià)值
API 3200™ LC/MS/MS系統(tǒng)
值得信賴的結(jié)果、重現(xiàn)性和可靠性。憑借*的技術(shù)創(chuàng)新和可靠性，API 3200™三重四極桿系統(tǒng)可同時(shí)提供優(yōu)異的性能、通量和價(jià)值。
更長(zhǎng)運(yùn)行時(shí)間、更高重現(xiàn)性、zui大儀器使用效率
設(shè)計(jì)緊湊且性能優(yōu)異的API 3200™系統(tǒng)專為進(jìn)行小分子定量分析的高通量實(shí)驗(yàn)室而設(shè)計(jì)，滿足環(huán)境、食品安全、臨床醫(yī)學(xué)、藥物開發(fā)等領(lǐng)域中所有類型及不同濃度的樣品測(cè)定，提供業(yè)界zui的可靠性和重復(fù)性質(zhì)譜數(shù)據(jù)。
和我們公司所有的三重四極桿和QTRAP®系統(tǒng)一樣，作為行業(yè)領(lǐng)-導(dǎo)-者，API3200™系統(tǒng)配備特色的即插即用離子源，滿足更寬的液相色譜流速范圍，分析更廣泛的化合物。專-利氣簾CurtainGas™接口和LINAC®碰撞池技術(shù)為您zui嚴(yán)格的定量分析試驗(yàn)提供了出眾的穩(wěn)定性和選擇性。
功能強(qiáng)大的軟件、*的自動(dòng)化特性、堅(jiān)實(shí)的工藝設(shè)計(jì)和制造提高實(shí)驗(yàn)室工作效率，每天可分析數(shù)百個(gè)樣品。
• 高效電離 創(chuàng)新的Turbo V™離子源促使化合物高效電離，并且有效消除交叉污染，即使是大體積進(jìn)樣、高靈敏度定量分析及很寬范圍的流速下測(cè)定時(shí)，也能消除交叉污染。
• 的MS/MS性能 專-利LINAC®碰撞池技術(shù)已得到*，該技術(shù)提供更快掃描速度，可在單次運(yùn)行時(shí)分析更多化合物，而不損失靈敏度或者影響圖譜質(zhì)量。
•zui長(zhǎng)運(yùn)行時(shí)間 *的氣簾Curtain Gas™接口保護(hù)了接口和四極桿分析器免受污染，大大地減少了日常維護(hù)的需要，保證了zui大的工作效率。
• 高通量 高效的軟件應(yīng)用包括自動(dòng)方法建立使得儀器能夠進(jìn)行無人值守運(yùn)行，每天可例行分析數(shù)百個(gè)樣品。
• 操作簡(jiǎn)便 即使您是初學(xué)者也一樣可以獲得專業(yè)級(jí)的測(cè)定結(jié)果。*的數(shù)據(jù)采集和處理軟件使設(shè)定和分析*自動(dòng)化。
• 值得信賴的結(jié)果、系統(tǒng)與技術(shù)支持 API 3200™系統(tǒng)擁有系統(tǒng)專業(yè)的服務(wù)與技術(shù)支持。我們承諾讓您的實(shí)驗(yàn)室保持*分析測(cè)試結(jié)果與zui高儀器使用效率。
建立在業(yè)界領(lǐng)-先技術(shù)基礎(chǔ)上的臺(tái)式分析平臺(tái)
API 3200™ LC/MS/MS系統(tǒng)充分采用了多項(xiàng)AB SCIEX公司所*的質(zhì)譜創(chuàng)新技術(shù)，以一-流的性能來滿足各行各業(yè)的要求。
氣簾Curtain Gas™接口
*氣簾CurtainGas™接口，保護(hù)接口部分和四極桿分析器免受污染，減少了日常維護(hù)，保證了儀器的zui大運(yùn)行時(shí)間。
LINAC®高壓碰撞池
專-利LINAC®高壓碰撞池確保MS/MS模式下離子從接口到檢測(cè)器的zui大傳輸率，有效消除交叉污染，允許同時(shí)進(jìn)行多組分分析，檢測(cè)更多的化合物和MRM離子對(duì)，而不損失靈敏度。LINAC®高壓碰撞池技術(shù)還能夠在所有質(zhì)譜掃描方式包括子離子掃描、母離子掃描、中性丟失掃描等中提高掃描速度而不降低性能。
便利的“即插即用”離子源
可靠耐用、易于互換、可方便使用的離子源，適合更廣泛的應(yīng)用范圍和流速范圍，滿足您不同的分析需要?？焖俚碾x子源切換使系統(tǒng)停止采集數(shù)據(jù)的時(shí)間降至zui短，大大簡(jiǎn)化日常維護(hù)工作。離子源工程設(shè)計(jì)的優(yōu)化，使所有的溫度、氣體、電子等連接部件全部一體化固定在離子源的基座上，無需額外管線，不浪費(fèi)時(shí)間。創(chuàng)新的TurboV™離子源促使化合物高效電離，即使在大體積進(jìn)樣及高流速分析時(shí)也能有效消除交叉污染。嵌入式陶瓷加熱技術(shù)和改良的氣體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì)提高了系統(tǒng)的zui低檢測(cè)限，能夠在LC流速高達(dá)3mL/min的流速范圍內(nèi)進(jìn)行高靈敏度的定量分析。ESI和APCI探針更換簡(jiǎn)便、迅速，在幾秒鐘內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)電離模式的快速轉(zhuǎn)換。
DuoSpray™離子源包含了可容納ESI和APCI兩套裝置，您可以在單次LC進(jìn)樣中針對(duì)每個(gè)化合物優(yōu)化離子源條件，是快速方法建立的理想工具，同時(shí)提升了分析通量和數(shù)據(jù)質(zhì)量。
PhotoSpray®離子源 用于大氣壓光電離，大大拓展了可分析的化合物范圍，某些化合物尤其是極性較弱的化合物的靈敏度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于ESI或APCI。PhotoSpray®電離源可以使多種不易被ESI或APCI電離的化合物（例如低極性的多環(huán)芳烴（PAH））有效離子化。
NanoSpray® II 離子源 采用霧化氣體輔助MicroIonSpray® 離子源，提供了不連續(xù)的納升噴霧（nanospray®)、納升流速（nano?ow）HPLC多種功能，用于需要進(jìn)行低流速的工作如蛋白質(zhì)和肽類分析。新改進(jìn)設(shè)計(jì)的接口使得離子更有效地從NanoSpray®離子源傳輸?shù)椒治鱿到y(tǒng)，大大提高了接口的耐用性和分析靈敏度。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果更可靠、更可信
新一代的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)Analyst®軟件可以配置儀器、調(diào)諧參數(shù)、采集數(shù)據(jù)、處理數(shù)據(jù)和進(jìn)行定量分析，即使是復(fù)雜基質(zhì)樣品分析，也保證高置信度的結(jié)果?？勺詣?dòng)建立多組分檢測(cè)的優(yōu)化方法，快速建立新的定量方法，分析和比較分析結(jié)果。
Analyst®軟件的另一個(gè)重要特性是適用于GLP實(shí)驗(yàn)室，全面符合21 CFR Part 11要求。
它建立了一個(gè)易于管理的、完整的安全模式，滿足您的實(shí)驗(yàn)室的需要，增加您的數(shù)據(jù)的安全性和可靠性。功能強(qiáng)大且*自動(dòng)化的附加應(yīng)用功能（如信息關(guān)聯(lián)采集 IDA）進(jìn)一步擴(kuò)充了系統(tǒng)的數(shù)據(jù)采集和處理能力。
的日內(nèi)和日間定量性能
氰乃凈（cyanazine），一種三嗪除草劑的標(biāo)準(zhǔn)曲線如圖所示，每個(gè)濃度重復(fù)進(jìn)樣5次，展示了出色的動(dòng)態(tài)線性范圍。*的精密度和準(zhǔn)確度證明了API 3200™系統(tǒng)可連續(xù)為您提供高質(zhì)量定量結(jié)果。
API 3200™系統(tǒng)的標(biāo)定曲線的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性以及定量能力可通過除草劑莠去津樣品每個(gè)重復(fù)進(jìn)樣3次所得的標(biāo)定曲線得到證實(shí)。
在連續(xù)4天的運(yùn)行中，每個(gè)濃度重復(fù)進(jìn)樣9次，精密度和準(zhǔn)確度遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于一般微量定量分析的要求，證明了API 3200™系統(tǒng)的穩(wěn)定性和重復(fù)性。優(yōu)異的日內(nèi)和日間精密度能使您快速完成定量方法確證。
簡(jiǎn)便的交叉平臺(tái)方法轉(zhuǎn)移
許多實(shí)驗(yàn)室在日常工作中使用多種ABSCIEX三重四極桿和QTRAP®LC/MS/MS系統(tǒng)。因?yàn)樗羞@些平臺(tái)都采用相同的Analyst®軟件和TurboV™離子源，方法轉(zhuǎn)移非常快速、簡(jiǎn)便，復(fù)制離子源的參數(shù)，調(diào)整化合物相關(guān)儀器參數(shù)，開始運(yùn)行即可。
通過這種方式，可以在API3200™系統(tǒng)上開發(fā)方法，然后轉(zhuǎn)移到ABSCIEX其它平臺(tái)上，忙碌的實(shí)驗(yàn)室能夠得到zui大效率。
您的成功就是我們工作的動(dòng)力我們視為己任。
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