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  • 熒光分布成像系統(tǒng) EEM View

熒光分布成像系統(tǒng) EEM View

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面議
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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-01-05
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量175
  • 人氣值14799
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  日立*集團的企業(yè)理念是“以成為先端技術(shù)領(lǐng)域里提供高科技解決方案的*為目標”。在這個理念的指引下,將電子裝置系統(tǒng)、生命科學系統(tǒng)、信息電子系統(tǒng)、*產(chǎn)業(yè)材料系統(tǒng)等各個事業(yè)部門的“先端技術(shù)”推向世界的Z前線。
 
  為了應(yīng)對日新月異的技術(shù)革新和需求的多樣化,達成事業(yè)的化,日立*集團同時具有用先端技術(shù)開發(fā)制造新產(chǎn)品的制造功能和向提供優(yōu)化解決方案的貿(mào)易公司機能,是一家在先端科技領(lǐng)域里向*更快、更好地提供產(chǎn)品和服務(wù)的性企業(yè)。
 
  日立*集團Z重視的是在中國地區(qū)的事業(yè)戰(zhàn)略。我們在上海、北京、深圳、香港設(shè)立了獨資公司,這些地方分公司在中國的11個地區(qū)設(shè)有銷售和技術(shù)服務(wù)網(wǎng)點。同時在蘇州和大連還設(shè)有生產(chǎn)基地。日立*集團不但支持中國電子產(chǎn)業(yè)和高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的半導體制造,而且提供各種解析設(shè)備,LCD制造和檢查設(shè)備,芯片貼裝設(shè)備等。在保障人民安全和健康的科學醫(yī)療領(lǐng)域,還提供各種解析、分析儀器及應(yīng)用相關(guān)系統(tǒng)等*開發(fā)產(chǎn)品和相應(yīng)的優(yōu)質(zhì)且完善的售后服務(wù)。此外,日立*集團從中國各地向*提供支持電子、高科技、汽車產(chǎn)業(yè)、環(huán)境和節(jié)能技術(shù)的各種新功能材料的采購解決方案,通過靈活利用網(wǎng)絡(luò)和其貿(mào)易公司功能,實現(xiàn)創(chuàng)造附加價值的事業(yè)模式。
 
  日立*中國實業(yè)集團作為被大家所信賴的企業(yè),在遵紀守法的同時,力爭創(chuàng)造新的價值,以“客戶*位為根本”開展工作,探求持續(xù)性發(fā)展,通過營銷活動為中國的高科技產(chǎn)業(yè)、環(huán)境及能源事業(yè)、社會基礎(chǔ)設(shè)施的安全、人民健康等方面的發(fā)展,不斷地做著積極的貢獻。衷心希望今后也能夠繼續(xù)得到大家的支持和厚愛。
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熒光分布成像系統(tǒng)采用全新設(shè)計,可以測定并觀察樣品的光譜數(shù)據(jù)。利用AI光譜圖像處理算法*1,不但可以分別顯示樣品的熒光圖像和反射圖像,還可以獲得不同區(qū)域的光譜圖像*1(熒光光譜、反射光譜)。*1計算系統(tǒng)是國立信息學研究所的IMARI SATO教授和鄭銀強副教授共同研究的成果。*EEM是日立*科學公司在中國和日本的注冊商標
熒光分布成像系統(tǒng) EEM View 產(chǎn)品詳情

熒光分布成像系統(tǒng) EEM® View

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熒光分布成像系統(tǒng)采用全新設(shè)計,可以測定并觀察樣品的光譜數(shù)據(jù)。利用AI光譜圖像處理算法*1,不但可以分別顯示樣品的熒光圖像和反射圖像,還可以獲得不同區(qū)域的光譜圖像*1(熒光光譜、反射光譜)。

*1
計算系統(tǒng)是國立信息學研究所的IMARI SATO教授和鄭銀強副教授共同研究的成果。
*
“EEM”是日立*科學公司在中國和日本的注冊商標

  • 特點

  • 應(yīng)用數(shù)據(jù)

  • 指標

特點

什么是EEM View

新技術(shù)可同時獲得熒光 · 反射圖像和光譜

  • 測定樣品的光譜數(shù)據(jù)(反射光譜、熒光光譜)
  • 在不同光源條件(白光和單色光)下拍攝樣品
    ?。▍^(qū)域:Φ20 mm、波長范圍:380~700 nm)
  • 采用AI光譜圖像處理算法*1,能夠分別顯示樣品熒光圖像和反射圖像
  • 根據(jù)圖像可獲得不同區(qū)域的光譜信息*1(熒光光譜、反射光譜)
*1
計算系統(tǒng)是國立信息學研究所的IMARI SATO教授和鄭銀強副教授共同研究的成果

EEM View Analysis 界面(樣品:LED電路板)

熒光分布成像系統(tǒng)概要

均勻的光源系統(tǒng)

同時獲取樣品的熒光 · 反射圖像和光譜!

  • 積分球漫反射使光源均勻化
  • 利用積分球收集的光均勻照射樣品
  • 采用熒光檢測器和CMOS相機雙檢測模式

新型熒光分布成像系統(tǒng)可安裝到F-7100熒光分光光度計的樣品倉內(nèi)。入射光經(jīng)過積分球的漫反射后均勻照射到樣品,利用F-7100標配的熒光檢測器可以獲得樣品熒光光譜,結(jié)合積分球下方的CMOS相機可獲得樣品圖像,并利用*的AI光譜圖像處理算法,可以同時得到反射和熒光圖像。

樣品安裝簡單,適用于各種樣品測試!

樣品只需擺放到積分球上,安裝十分簡單!

  • 板狀樣品:通過石英窗安裝樣品。
  • 粉末樣品:將粉末填充至樣品平整夾具中,置于粉末樣品池支架,或使用選配件固體樣品支架中的粉末樣品池安裝樣品。

  • 校正時,需放置好熒光標準樣品。
  • 請使用選配的標準白板(100 %)和空白樣品(0 %)進行校正。此校正工具可被應(yīng)用于熒光強度、反射率校正, 以及圖像不同區(qū)域的亮度分布校正。

 

應(yīng)用數(shù)據(jù)

【應(yīng)用實例】微結(jié)構(gòu)材料的熒光特性和結(jié)構(gòu)確認

為了提高可視性,我們測量了具有精細結(jié)構(gòu)的熒光反射片。

同時獲得光譜數(shù)據(jù)和樣品圖像

對樣品照射360 nm~700 nm范圍內(nèi)的單色光以及白光。此時,可獲得不同光源條件下的圖像,同時通過熒光檢測器可獲得熒光光譜。測定完成后,可以查看樣品的三維熒光光譜(激發(fā)波長、發(fā)射波長、熒光強度)。在分析軟件中,可對圖像進行放大,從而顯示不同區(qū)域的熒光 · 反射光譜。因此能夠確認光學性能分布不均勻的樣品的反射和熒光光譜。

計算、顯示不同區(qū)域的光譜(熒光 · 反射)

顯示分離圖像(熒光 · 反射)

對拍攝到的圖像進行反射光成分圖像與熒光成分圖像分離

利用AI光譜圖像處理算法,將拍攝的圖像分離為反射光成分和熒光成分圖像。結(jié)果,反射光成分圖像顯示為橙色,熒光成分圖像顯示為綠色。二者分別與反射光譜與熒光光譜的單色光一致。由此可知,此樣品是橙色反射光和綠色熒光的混合,所以在白光下呈黃色。此外,通過反射圖像和熒光圖像可看出樣品不同區(qū)域的光學特性(圖像圖案)差異。放大圖像后可以看到,反射板的微細結(jié)構(gòu)存在規(guī)律的間隔,其間隔寬度是200 μm。

指標

主要功能

主要功能
項目內(nèi)容
EEM View模式
(測定模式)
三維熒光光譜的測定
單色光圖像
白色光圖像
預(yù)覽圖像
數(shù)據(jù)處理顯示縮略圖
顯示三維熒光光譜(等高線,漸變圖)
顯示激發(fā)/發(fā)射光譜
顯示放大圖像
圖像分區(qū)(1×1、2×2、3×3、4×4、5×5)
計算、顯示不同區(qū)域光譜(熒光、反射)*1
顯示分離圖像(熒光、反射)*1
*1
計算系統(tǒng)是國立信息學研究所的IMARI SATO教授和鄭銀強副教授共同研究的成果

規(guī)格

規(guī)格
項目內(nèi)容
照射波長

360 nm ~700 nm

相機彩色(RGB)CMOS傳感器
接口

USB3.0

有效像素數(shù)1920 × 1200(H×V)
可拍攝波長范圍

380 nm ~700 nm

*
此配件的主要規(guī)格以熒光分光光度計主機為設(shè)計依據(jù)。

配置示例

配置示例
名稱P/N(序列號)
F-7100熒光分光光度計

5J1-0042

EEM View配件

5J0-0570

R928F光電倍增管

650-1246

副標準光源

5J0-0136

應(yīng)用

介紹分光熒光光度計(FL)的測量實例。

熒光分光光度計之光譜精確測定

介紹有關(guān)補正裝置間機差的方法和去除散亂光的方法。

固體樣品熒光光譜

介紹使用固體樣本保持器(可選)等離子體顯示器的熒光光譜測量實例。

科學環(huán)

介紹以科技領(lǐng)域者為目標的日立*科學集團的象征標志。

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  • 熒光分光光度計F-7100 熒光分光光度計F-7100
  • 熒光分光光度計 F-7000 熒光分光光度計 F-7000
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