離子濺射儀 MC1000
采用磁控型電極，大限度地減輕對樣品的損壞。
特點
規(guī)格
特點
- 采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件
- 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
- 記憶功能可存儲常用加工條件
規(guī)格
| 項目 | 說明 | |
|---|---|---|
| 放電 | 類型 | 磁控二極管放電型(電場垂直于磁場) |
| 電極組成 | 反向平行盤(嵌入磁鐵) | |
| 電壓 | 大 0.4 kV DC(直流可變) | |
| 電流 | 大 40 mA DC | |
| 噴鍍速率 *1(大) [條件] 壓力：7 Pa 放電電流：40 mA 標靶與樣品表面之間的距離：20 mm | Pt 靶(選配件) | 15 nm/min |
| Pt-Pd 靶(選配件) | 20 nm/min | |
| Au 靶(選配件) | 35 nm/min | |
| Au-Pd 靶(選配件) | 25 nm/min | |
| 樣品尺寸 | 大直徑 | φ60 mm |
| 大高度 | 20 mm | |
| 機械泵 | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
| 靶材*2 | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
| 電源要求 | 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m) | |
| 尺寸 | 寬度 | 450 mm |
| 長度 | 391 mm | |
| 高度 | 390 mm | |
| 重量 | 主機：約 25 kg 機械泵：約 28 kg | |
- *1
- ： 噴鍍速率僅供參考
- *2
- ： 主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑，鉑-鈀，金，金-鈀)。
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