APS研磨系統(tǒng)(選項(xiàng) : 真空、增壓、納米、 陶瓷等系列)
當(dāng)APS研磨系統(tǒng)和合適的研磨盤組合時, DISPERMAT 研磨分散機(jī)即可轉(zhuǎn)變成為批量密封式的研磨分散機(jī)。
APS系統(tǒng) | 基料量 | 杯容積 | 研磨珠量 |
APS 30 | 12 毫升 | 30毫升 | 12毫升 |
APS 50 | 20 毫升 | 50 毫升 | 20 毫升 |
APS 125 | 50 毫升 | 125毫升 | 50 毫升 |
APS 250 | 60 ? 110 毫升 | 250毫升 | 100 毫升 |
APS 500 | 110 ? 210 毫升 | 500毫升 | 200 毫升 |
APS 1000 | 220 ? 430 毫升 | 1升 | 400 毫升 |
TML籃式研磨系統(tǒng)(選項(xiàng) : 納米, 陶瓷和真空等系列)
加裝上TML研磨系統(tǒng),即可使DISPERMAT 研磨分散機(jī)改變?yōu)榉忾]式的籃式研磨系統(tǒng)?;@式砂磨機(jī)是高效率的研磨系統(tǒng)。將已填充了研磨珠的研磨籃下降到基料中去研磨,籃內(nèi)快速轉(zhuǎn)動的研磨盤攪動著籃內(nèi)的珠子進(jìn)行研磨工藝,分散盤、籃子和的內(nèi)置葉片泵輪產(chǎn)生極為有效的基料循環(huán), 有助在短時間內(nèi)得到盡可能佳的研磨效果。
TML系統(tǒng) | 基料量 | 容杯量 | 研磨籃 |
TML 05 | 250毫升 | 500毫升 | 43毫升 |
TML 1 | 500 ? 3升 | 1、2、3、5升 | 65 毫升 |
CDS真空系統(tǒng)(選項(xiàng) : 單壁或雙壁杯座)
CDS真空系統(tǒng)可選單壁杯在真空密封條件下進(jìn)行分散。先將單壁杯放入單壁式或雙壁夾套式容杯的杯座內(nèi)并鎖緊;隨后加入液體和粉體等材料;然后降下玻璃杯蓋使之密封;即可開始在真空條件下分散。
CDS系統(tǒng) | 材料量 | 容杯容積 | 容杯尺寸 |
CDS 250 | 200 毫升 | 250 毫升 | 65 x 85 mm |
CDS 500 | 400 毫升 | 500 毫升 | 80 x 100 mm |
CDS 1000 | 700 毫升 | 1 升 | 100 x 130 mm |
CDS 2000 | 1.5 升 | 2 升 | 120 x 180 mm |
CDS 3000 | 2.2 升 | 3 升 | 140 x 200 mm |
SR-03/04轉(zhuǎn)子-定子 (乳化)系統(tǒng)
SR轉(zhuǎn)子 --定子(乳化)系統(tǒng)適用于低粘度材料的分散。無軸承的轉(zhuǎn)子是理想的流動中斷裝置, 可有效防止材料轉(zhuǎn)動, 更能在極小的空間內(nèi)提供高效的機(jī)械能。
ASC高粘度材料用的
為確保高粘度和不流動材料達(dá)到盡可能佳的分散、混合效果,選用ASC系統(tǒng)是重要和必需的, ACS系統(tǒng)并非像一般的臂在杯內(nèi)作圓形轉(zhuǎn)動, 而是臂不動,但容杯被鉗緊地轉(zhuǎn)動,操作方便,只需把ASC系統(tǒng)放入支架內(nèi), 用自動置中杯鉗裝置固定,并降之容杯內(nèi)后進(jìn)行理想的分散、混合工藝。