NX-2600整片基板帶對準可多層次納米壓印加高分辨率光刻系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實時實地驗證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定。具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印。

基于*設計的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)（ACP），不論模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu)，NX-2600均可對其校正補償從而獲得*的壓印均勻性， ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設計可獲得快速的熱壓印周期，終得到快速的工藝循環(huán)

主要特點：

所有形式的納米壓印

熱塑化

紫外固化

熱壓與紫外壓印同時進行

熱固化 

氣墊軟壓技術(shù)(ACP)

Nanonex技術(shù)

完美的整片基板納米壓印均勻性

高通量 

低于10nm分辨率 

亞1微米正面對準精度 

背面對準可選項

 快速工藝循環(huán)時間（小于60秒） 

靈活性

4″, 6″, or 8″壓印面積可選

各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印

方便用戶操作 

基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗的自動化壓印操作 

Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實時實地驗證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定 

全自動納米壓印

系統(tǒng)參數(shù)：

熱塑壓印模塊

溫度范圍0~250℃ 

加熱速度>300℃/分鐘

制冷速度>150℃/分鐘

壓力范圍0 ~ 3.8MPa(500 psi)

紫外固化模塊(NX-2000)

200W窄帶紫外光源

365納米或395納米波長可選

全自動化控制

對準模塊

X, Y, Z, Theta平臺

分場光學和CCD相機

基板裝載

標配納米壓印系統(tǒng)可裝載4″基板

6″和8″基板可選

各種尺寸及不規(guī)則形狀模板及基板均可壓印

ACP技術(shù)可大限度保護基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予大限度保護。

光刻

標配5”模板，標配4”直徑基板

其他尺寸可以提供

500瓦紫外水銀燈光源

其他參數(shù)：

配有微軟Windows的電腦控制系統(tǒng) 

用戶友好的控制軟件 

程序化控制壓印溫度、壓力和時間 

真空和壓縮空氣操作由電腦控制 

手動裝載/拆卸基板 

自動化壓印操作 

設備占地面積:31 × 87 英寸

(780 mm × 2210 mm) 

應用領域:

納米電子和光電子、顯示器、數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、*材料、生物科技、納米流道等。