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GaSe晶體, AGSe晶體, CdSe晶體 激光器件

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GaSe晶體是一種六邊形晶體,主要用于遠(yuǎn)紅外波段的二次諧波產(chǎn)生。AGSe晶體-硒化銀(AgGaSe2,有時(shí)也稱為銀鎵硒化物)廣泛應(yīng)用于中紅外(MIR)、紅外(IR)和遠(yuǎn)紅外(FIR)光應(yīng)用,是樹波相互作用的晶體之一。CdSe晶體(硒化鎘)是晶體材料,通常取向?yàn)槔w鋅礦(六角形)。硒化鎘晶體廣泛應(yīng)用于各種中紅外(MIR)領(lǐng)域,見的是CdSe用于制造紅外光學(xué)元件,以及CO、CO2或其它紅外激光系......
GaSe晶體, AGSe晶體, CdSe晶體 激光器件 產(chǎn)品詳情

非線性晶體,GaSe晶體, AGSe晶體, CdSe晶體

硒化鎵(GaSe)是一種六邊形晶體,主要用于遠(yuǎn)紅外波段的二次諧波產(chǎn)生。硒化鎵具有極低的莫氏硬度,使其非常脆弱,消除了應(yīng)用機(jī)械處理或涂層的可能性。3photon可以提供沿光軸Z切割的氣體晶體。

大的非線性光學(xué)(NLO)系數(shù)使得AGSe成為非線性光學(xué)(NLO)應(yīng)的紅外晶體之一。與AGS相比,硒鋁酸銀(AGSe)具有紅外吸收系數(shù)低、熔點(diǎn)低等優(yōu)點(diǎn)。

近年來,人們采用了幾種晶體生長方法來生長CdSe單晶和多晶材料?;瘜W(xué)氣相輸運(yùn)、固態(tài)再結(jié)晶、溫度梯度溶液區(qū)生長、高壓垂直區(qū)熔是獲得高質(zhì)量CdSe晶體的主要方法。3photon可以隨時(shí)為晶體生長提供專業(yè)建議。CdSe拋光后,可根據(jù)要求對(duì)材料進(jìn)行涂層處理。內(nèi)部涂層由經(jīng)驗(yàn)豐富的涂層工程師進(jìn)行建模和沉積。

 

GaSe晶體特點(diǎn):

- GaSe是非常軟的材料,不能進(jìn)行拋光或涂層程序;

-透明度范圍:900-16000nm;

-只能在一個(gè)平面(001)上切割;

-由于高折射率和可用的方向限制,只能使用較小的θ角;

-較便宜的替代AGSAGSe,可產(chǎn)生2400 nm20000nm或太赫茲輸出。

 

GaSe晶體典型應(yīng)用:

-GaSe電子和光學(xué)應(yīng)用:

高功率飛秒激光器;

太赫茲(THz)產(chǎn)生;

寬帶中紅外(MIR)電磁波產(chǎn)生的替代方案;

在中紅外(MIR)中產(chǎn)生二次諧波(SHG),用于CO、CO2、染料激光器等。;

上轉(zhuǎn)換:紅外(IR)到近紅外(NIR)范圍;

光學(xué)參量產(chǎn)生(OPG)在316µm范圍內(nèi)。

 

AGSe晶體特點(diǎn):

-寬的3光子紅外晶體的透明度范圍從1100納米到18微米;

-大的非線性光學(xué)(NLO)系數(shù)(deff=~27-33 pm/V);

-寬光譜和角度接受;

-生長過程復(fù)雜,價(jià)格昂貴;

-非線性大約是AGS2-3倍;

-高損傷閾值涂層可用于中紅外(MIR)和紅外(IR)范圍。

 

AGSe晶體典型應(yīng)用:

-CO5-6μm)和CO210.6μm)激光系統(tǒng)的有效二次諧波產(chǎn)生(SHG);

-Ho:YLF2050nm)泵浦的光學(xué)參量振蕩器(OPO),輸出可調(diào)范圍為2.512μm

-中紅外和遠(yuǎn)紅外區(qū)域的不同頻率發(fā)生器,其紅外截止波長約為18µm;

-作為ZGP晶體的替代品,OPA2.09μm->3-5μm

-在第二階段(在OPO800 nm泵浦后)以產(chǎn)生7-20μm的更長波長。

 

CdSe晶體特點(diǎn):

-低光吸收。

-寬帶特定傳輸范圍:2.5μm16μm。

 

CdSe晶體典型應(yīng)用:

-紅外偏振光學(xué):紅外偏振器和紅外波片。

-紅外光學(xué)元件,如紅外分束器、紅外二色反射鏡和紅外窗口。

-納米顆粒(如納米AWS、納米管和納米線)。

-光學(xué)參量發(fā)生器(OPG)。

-光學(xué)參量振蕩器。

-DFM變頻器。

 

關(guān)鍵詞:振蕩器 發(fā)生器
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