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激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)(NH3)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-08-13
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限9
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量28
  • 人氣值321
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~北京大方科技有限責(zé)任公司是由留學(xué)歸國人員創(chuàng)辦的集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)為一體的*,是*的環(huán)境與安全分析檢測儀器生產(chǎn)商與系統(tǒng)解決方案供應(yīng)商。

     大方科技總部位于北京中關(guān)村科技園區(qū),生產(chǎn)基地位于遼寧營口沿海產(chǎn)業(yè)基地。公司匯聚了畢業(yè)于美國斯坦福大學(xué)等學(xué)府的技術(shù)與管理精英,聘請美國工程院院士擔(dān)任公司技術(shù)顧問。公司掌握TDLAS核心技術(shù),擁有光學(xué)、電子、機械以及信息技術(shù)等領(lǐng)域?qū)I(yè)配套、經(jīng)驗豐富、高水平的研發(fā)團隊,自主研發(fā)的激光氣體在線分析系統(tǒng),擁有*自主知識產(chǎn)權(quán),廣泛應(yīng)用于環(huán)保、電力、水泥、陶瓷、化工、冶金、焦化以及工業(yè)鍋爐等領(lǐng)域,在海內(nèi)外擁有近千套的成熟案例。

      公司先后被認定為“國家*”、“中關(guān)村*”、“海淀區(qū)創(chuàng)新企業(yè)”。團隊*入選國家“千人計劃”,為“國家特聘專家”,入選北京市“海聚工程”,為“北京市特聘專家”。公司的激光氣體分析產(chǎn)品獲得“國家重點新產(chǎn)品”證書,擁有多項發(fā)明和軟件著作權(quán)。

       依托強大的研發(fā)和技術(shù)服務(wù)團隊,大方科技以專業(yè)的水準、高標(biāo)準的要求、完善的技術(shù)方案,竭誠為廣大用戶提供優(yōu)質(zhì)高效的產(chǎn)品和服務(wù)。

 

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激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項目概述脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度,該款脫硝氨逃逸監(jiān)測產(chǎn)品是大方科技近十年氨逃逸監(jiān)測的經(jīng)典款,擁有上千套成功應(yīng)用案例
激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)(NH3) 產(chǎn)品詳情

激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)


一、項目概述

      脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度,該款脫硝氨逃逸監(jiān)測產(chǎn)品是大方科技近十年氨逃逸監(jiān)測的經(jīng)典款,擁有上千套成功應(yīng)用案例。該產(chǎn)品采用傳統(tǒng)抽取式技術(shù)路線結(jié)合大方科技的多次反射技術(shù),具有可靠性高、安裝維護方便,測量精度高等特點。

二、測量原理

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)進行NH3的測量,以可調(diào)諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強衰減,根據(jù)朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關(guān)系,從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復(fù)合光源而言,具有*的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數(shù):

                       

三、測量方案

      根據(jù)脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求,產(chǎn)品采用大方科技經(jīng)典的抽取+多反長光程測量技術(shù),煙氣通過采樣系統(tǒng)取樣后經(jīng)伴熱管線進入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動等對測量的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱,保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達30米,可大大提高測量精度。 

四、系統(tǒng)特點

1 采用TDLAS技術(shù),不受背景氣體影響

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移,避免了定期校正需要

      系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術(shù),并且進行動態(tài)的補償,實時鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象。

3 全程高溫伴熱,避免氨氣吸附損失

      抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱,確保無氨氣吸附損失。

4 采用多次反射樣氣室,極大地提高測量精度

      系統(tǒng)采用多次反射測量池技術(shù),光程可達30米,極大地提高了測量精度。

5 可靠性高,運行穩(wěn)定

      分析系統(tǒng)無任何運動部件,極大地增強了可靠性。分析儀采兩級菜單操作,人機交互界面友好,根據(jù)界面提示可不需要說明書就能掌握儀器的基本操作。自動反吹,可拆卸濾芯,維護方便,運行費用低。

6 安裝調(diào)試靈活

      分析系統(tǒng)適合安裝在不同工業(yè)環(huán)境下,模塊化設(shè)計,安裝方便,開機預(yù)熱后便可正常運行無需進行現(xiàn)場光路調(diào)試。

7 技術(shù),便于維護光學(xué)器件

      大方科技*的樣氣室設(shè)計,包含維護窗口,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學(xué)器件進行清潔,無需重新調(diào)節(jié)光路,讓維護更加快速方便。

8 儀表自檢及自恢復(fù)功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài),可以通過自檢及自恢復(fù),使分析儀重新恢復(fù)測量工作狀態(tài)。

9 自主知識產(chǎn)權(quán)

      大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年,針對國內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā),擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權(quán),對產(chǎn)品擁有*自主知識產(chǎn)權(quán),產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。

五、典型應(yīng)用:

      電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業(yè)鍋爐等企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測;

      煉焦企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測;

      化工廠脫硝氨逃逸監(jiān)測;

      氨法脫硫氨逃逸監(jiān)測。

關(guān)鍵詞:伴熱管 儀表
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