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  • 開放光程式激光在線分析儀

開放光程式激光在線分析儀

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-08-13
  • 廠商性質生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限9
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量28
  • 人氣值322
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~北京大方科技有限責任公司是由留學歸國人員創(chuàng)辦的集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務為一體的*,是*的環(huán)境與安全分析檢測儀器生產(chǎn)商與系統(tǒng)解決方案供應商。

     大方科技總部位于北京中關村科技園區(qū),生產(chǎn)基地位于遼寧營口沿海產(chǎn)業(yè)基地。公司匯聚了畢業(yè)于美國斯坦福大學等學府的技術與管理精英,聘請美國工程院院士擔任公司技術顧問。公司掌握TDLAS核心技術,擁有光學、電子、機械以及信息技術等領域專業(yè)配套、經(jīng)驗豐富、高水平的研發(fā)團隊,自主研發(fā)的激光氣體在線分析系統(tǒng),擁有*自主知識產(chǎn)權,廣泛應用于環(huán)保、電力、水泥、陶瓷、化工、冶金、焦化以及工業(yè)鍋爐等領域,在海內外擁有近千套的成熟案例。

      公司先后被認定為“國家*”、“中關村*”、“海淀區(qū)創(chuàng)新企業(yè)”。團隊*入選國家“千人計劃”,為“國家特聘專家”,入選北京市“海聚工程”,為“北京市特聘專家”。公司的激光氣體分析產(chǎn)品獲得“國家重點新產(chǎn)品”證書,擁有多項發(fā)明和軟件著作權。

       依托強大的研發(fā)和技術服務團隊,大方科技以專業(yè)的水準、高標準的要求、完善的技術方案,竭誠為廣大用戶提供優(yōu)質高效的產(chǎn)品和服務。

 

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開放光程激光在線分析儀一、項目概述HCl是一種酸性氣體,一定濃度下對人體有害
開放光程式激光在線分析儀 產(chǎn)品詳情

開放光程激光在線分析儀


一、項目概述

      HCl是一種酸性氣體,一定濃度下對人體有害。所以,環(huán)境空氣中HCl氣體需要實時監(jiān)測,以保障環(huán)境安全。環(huán)境空氣中HCl濃度低,測量精度要求高。本產(chǎn)品采用開放光程TDLAS技術,一體化設計,具有占用空間小,覆蓋范圍廣,測量精度高,響應速度快等特點。

二、測量原理

      系統(tǒng)采用可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術進行HCl的測量,以可調諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中HCl分子吸收導致的激光光強衰減,根據(jù)朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關系,從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中HCl濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復合光源而言,具有*的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數(shù):

                       

三、測量方案

      根據(jù)環(huán)境空氣中HCl濃度低、測量精度要求高等特點,方案采用了上*的開放光程遙測TDLAS技術,設備覆蓋范圍廣,光程長,測量精度也得到了極大的提高。

      系統(tǒng)由分析單元和反射單元組成,分析單元向反射單元發(fā)射激光,經(jīng)反射后進入分析單元接收和解析測量。分析單元一體化設計,小巧輕便。反射單元采用自主開發(fā)的高反裝置,可以覆蓋較遠的距離。系統(tǒng)配置自動校準裝置,可以定期對設備進行自動校準,也可對設備進行手動校準和檢驗。 

四、系統(tǒng)特點

1 采用TDLAS技術,不受背景氣體影響

      系統(tǒng)采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移,避免了定期校正需要

      系統(tǒng)內部設計有標定氣室,用于設備自動標定及實時的氣體吸收譜線鎖定,設備通過該氣室自動標定,無需人為定期標定。同時測量時進行實時動態(tài)補償,使測量不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象。

3 覆蓋范圍廣

      系統(tǒng)采用開放光程測量方式,覆蓋范圍更廣。

4 測量精度高

      采用開放光程測量光程長,測量精度高。

5 響應速度快

      TDLAS技術實現(xiàn)毫秒級掃描,系統(tǒng)響應速度快。

6 抗*力強

      開放光程遙測分析儀主機殼體(屏蔽殼)采用特殊屏蔽結構,該結構在強電磁場環(huán)境可以進一步提高屏蔽的效能,從而保證設備的抗*力。

7 可靠性高、運維成本低

      分析儀一體化設計,無任何運動部件。系統(tǒng)光學部件均設計有保護裝置,避免設備在運行時光學器件受到污染,極大的降低了運行維護的工作量和成本。

8 儀表自檢及自恢復功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài),可以通過自檢及自恢復,使分析儀重新恢復測量工作狀態(tài)。

9 自主知識產(chǎn)權

      大方科技深耕TDLAS技術領域20年,針對國內應用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā),擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權,對產(chǎn)品擁有*自主知識產(chǎn)權,產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。

五、典型應用:

      廠界環(huán)境空氣中HCl濃度的實時在線監(jiān)測;

      園區(qū)環(huán)境空氣中HCl濃度的實時在線監(jiān)測。


關鍵詞:儀表
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產(chǎn)品名稱參考價地區(qū)公司名稱更新時間 
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