本儀器包括透射型(WNLO-ID)和反射型(WNLO-RID)雙4f相位成像儀兩款產(chǎn)品。雙4f相位成像測量儀是本公司自主研發(fā)的新型光學(xué)非線性測量儀,擁有自主知識產(chǎn)權(quán)。該測量儀適用于從可見光到近紅外波段(特別是光通信波段)的非線性吸收和非線性折射系數(shù)的測量。該儀器只需單個脈沖就可以完成介質(zhì)非線性系數(shù)的測量,通過對參考光斑和非線性光斑的分析,就可直接確定材料的非線性折射系數(shù)大小和符號,并同時測量材料的非線性吸收系數(shù)。WNLO-ID型雙4f成像儀適用于透明材料光學(xué)非線性的測量,WNLO-RID型雙4f成像儀適用于不透明介質(zhì)表面以及不透明襯底上薄膜的光學(xué)非線性的測量。與現(xiàn)有的其他光學(xué)非線性測量方法相比,該儀器可在激光脈沖的空間分布、時間分布和能量不穩(wěn)定的情況下實現(xiàn)材料光學(xué)非線性的精確測量。該儀器利用自主研發(fā)的控制軟件,操作簡單方便,并利用圖像及數(shù)據(jù)處理軟件實現(xiàn)數(shù)據(jù)自動化采集處理。WNLO-ID&WNLO-RID型雙4f相位成像測量儀使用非常方便,對光源要求較低,可滿足高校、科研院所及新材料企業(yè)的新型材料的研發(fā)需求。
【可見光及近紅外波段光學(xué)非線性系數(shù)測量儀】
1、單脈沖測量,無需樣品移動,特別適用于薄膜光學(xué)非線性的測量;
測量示例: