該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
測(cè)量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)
波長(zhǎng)范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等；
藍(lán)寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長(zhǎng)范圍(200-1700nm)：
系統(tǒng)性能參數(shù)：
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準(zhǔn)確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩(wěn)定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 光斑直徑 | 標(biāo)準(zhǔn)2mm, 可以小至3um |
| 樣品大小 | 大于1 mm |
測(cè)量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)
界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測(cè)量和分析。
實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測(cè)量，動(dòng)態(tài)測(cè)量和產(chǎn)線批量處理。
技術(shù)參數(shù)：
| 測(cè)量范圍 | 1nm-50um 或1nm-150um |
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準(zhǔn)確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩(wěn)定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 波長(zhǎng)范圍 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
| 光譜儀和檢測(cè)器 | F4光譜儀，3600像素CCD檢測(cè)器，16位深 |
| F3光譜儀，512像素InGaAs 檢測(cè)器 | |
| 光譜分辨率 | 2nm（UVVis），4nm（NIR） |
| 光源 | 20W鹵鎢燈（添加氙），色溫3100，壽命：2000小時(shí) |
（內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖）
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