測量技術(shù)和特點
1.調(diào)制光譜檢測技術(shù)
調(diào)制光譜檢測技術(shù)是一種被*廣泛應(yīng)用的可以獲得較高檢測靈敏度的DLAS技術(shù)。它通過快速調(diào)制激光頻率使其掃過被測氣體吸收譜線的定頻率范圍，然后采用相敏檢測技術(shù)測量被氣體吸收后透射譜線中的諧波分量來分析氣體的吸收情況。調(diào)制類方案有外調(diào)制和內(nèi)調(diào)制兩種，外調(diào)制方案通過在半導(dǎo)體激光器外使用電光調(diào)制器等來實現(xiàn)激光頻率的調(diào)制，內(nèi)調(diào)制方案則通過直接改變半導(dǎo)體激光器的注入工作電流來實現(xiàn)激光頻率的調(diào)制。由于使用的方便性，內(nèi)調(diào)制方案得到更為廣泛的應(yīng)用，下面簡單描述其測量原理。
諧波分量 可以使用相敏探測器（PSD）來檢測。調(diào)制光譜技術(shù)通過高頻調(diào)制來顯著降低激光光器噪聲（1/f噪聲）對測量的影響，同時可以通過給PSD設(shè)置較大的時間常數(shù)來獲得很窄帶寬的帶通濾波器，從而有效壓縮噪聲帶寬。因此，調(diào)制光譜技術(shù)可以獲得較好的檢測靈敏度。
2.技術(shù)特點和優(yōu)勢
2.技術(shù)特點和優(yōu)勢
（1）不受背景氣體的影響
傳統(tǒng)非色散紅外光譜吸收技術(shù)采用的光源譜帶很寬，其譜寬范圍內(nèi)除了被測氣體的吸收譜線外，還有很多基他背景氣體的吸收譜線。因此，光原發(fā)出的光除了被待測氣體的多條吸收譜線吸收外還被一些背景氣體的吸收譜線吸收，從而導(dǎo)致測量的不準(zhǔn)確性。
而半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)中使用的半導(dǎo)體激光的譜寬小于0.0001nm，為上述紅外光源譜寬的1/106，遠(yuǎn)小于被測氣體一條吸收譜線的譜寬。DLAS氣體濃度分析儀首先選擇被測氣體位于待定頻率的某一吸收譜線，通過調(diào)制激光器的工作電流使激光波長掃描過該吸收譜線，從而獲得如圖3所示的“單線吸收光譜”數(shù)據(jù)。
在選擇該吸收譜線時，就保證在所選吸收譜線頻率附近約10倍譜線寬度范圍內(nèi)無測量環(huán)境中背景氣體組分的吸收譜線，從而避免這些背景氣體組分對被測氣體的交叉吸收干擾，保證測量的準(zhǔn)確性（例如圖3中位于6408cm-1 頻率處的CO吸收譜線附近無H2O吸收譜線，從而測理環(huán)境中水分不會對CO的測量產(chǎn)生干擾）。
（2）不受粉塵與視窗污染的影響
氣體的濃度由透射光強的二次諧波信號與直流信號的比值來決定。當(dāng)激光傳輸光路中的粉塵或視窗污染產(chǎn)生光強衰減時，兩信號會等比例下降，從而保持比值不變。因此過程氣體中的粉塵和視窗污染對于儀器的測量結(jié)果沒有影響。實驗結(jié)果表明即使粉塵和視窗污染導(dǎo)致光透過率下降到1%，儀器示值誤差仍不超過3%。
（3）自動修正溫度，壓力對測量的影響
一些工業(yè)過程氣體可能存在幾百攝氏度的溫度變化和幾個大氣壓的壓力變化。氣體溫度和壓力的變化會導(dǎo)致二次諧波信號波形的幅值與形狀發(fā)生相應(yīng)的變化，從而影響測量的準(zhǔn)確性。
為了解決這個問題，DLAS技術(shù)中可增加溫度、壓力補償算法，只要將外部傳感器測得的氣體溫度，壓力信號輸入補償算法中，DLAS氣體濃度分析儀就能自動修正溫度、壓力變化對氣體濃度測量的影響，保證了測量的準(zhǔn)確性。
激光氣體在線分析儀用來進行連續(xù)工業(yè)過程和氣體排放測量,適合于惡劣工業(yè)環(huán)境應(yīng)用，如鋼鐵各種燃爐、鋁業(yè)和有色金屬、化工、石化、水泥、發(fā)電和垃圾焚燒等。
特 征
高分辨率（激光掃描頻率是傳統(tǒng)激光分析儀的幾倍）
模塊化設(shè)計，可現(xiàn)場模塊化替換，快速維護和維修
高光穿透能力，適合于高粉塵阻擋環(huán)境應(yīng)用
磚利性航空動力學(xué)原理插入管，適合于特高粉塵阻擋環(huán)境應(yīng)用
無交叉干擾
無需采樣，現(xiàn)場在線直接測量
快速測量（響應(yīng)時間可低于1秒）
結(jié)構(gòu)緊湊、堅固耐用
根據(jù)應(yīng)用要求不同,主要有以下幾種組態(tài)型號：
（原位型）
激光原位測量，響應(yīng)速度快，測量精度高
集成式正壓防爆設(shè)計，安全可靠
模塊化設(shè)計，可現(xiàn)場更換所有功能模塊，維護方便
智能化程度高、操作方便
（旁路型）
激光旁路測量，測量精度高，抗*力強
光學(xué)非接觸測量，可直接測量高溫、強腐蝕性氣體
旁路處理裝置簡單、可靠，可直接安裝在過程管道處
全系統(tǒng)防爆，支持氣體溫度、壓力自動補償
（分布型）
分布式激光測量，支持八個測量通道，高性價比
測量通道獨立激光測量模塊，可靠性高
網(wǎng)絡(luò)化集中顯示和控制，監(jiān)控方便
激光原位測量，響應(yīng)速度快，測量精度高
集成式正壓防爆設(shè)計，安全可靠
模塊化設(shè)計，可現(xiàn)場更換所有功能模塊，維護方便
智能化程度高、操作方便
（旁路型）
激光旁路測量，測量精度高，抗*力強
光學(xué)非接觸測量，可直接測量高溫、強腐蝕性氣體
旁路處理裝置簡單、可靠，可直接安裝在過程管道處
全系統(tǒng)防爆，支持氣體溫度、壓力自動補償
（分布型）
分布式激光測量，支持八個測量通道，高性價比
測量通道獨立激光測量模塊，可靠性高
網(wǎng)絡(luò)化集中顯示和控制，監(jiān)控方便
可測量氣體成分和探測極限 | |||||||
氣體成分 | 探測極限（1S） | 氣體成分 | 探測極限（1S） | ||||
管道式測量 | 遠(yuǎn)程式測量 | 采樣式測量 | 管道式測量 | 遠(yuǎn)程式測量 | 采樣式測量 | ||
(ppmv-meter) | 距離=250m,ppbv | 單元長度=12m,ppmv | (ppmv-meter) | 距離=250m,ppbv | 單元長度=12m,ppmv | ||
O2 | 100 | 8000 | 75 | CO | 50 | 100 | 1.0 |
NO2 | 25 | 50 | 0.5 | CO2 | 50 | 100 | 1.0 |
HF | 0.08 | 0.2 | 0.005 | CH2CHCL | 2.0 | 4.0 | 0.05 |
HBr | 50 | 100 | 1.0 | C2H4 | 20 | 40 | 0.5 |
H2O | 2 | 4.0 | 0.05 | CH4 | 2.0 | 4.0 | 0.05 |
HCN | 0.15 | 0.3 | 0.03 | C2H6 | 50 | 100 | 1.0 |
HI | 2.5 | 5.0 | 0.05 | HCL | 0.3 | 0.6 | 0.006 |
NH3 | 1.0 | 10 | 0.1 | NO | 50 | 100 | 1.0 |
C2H2 | 5.0 | 10 | 0.1 | C3H8 | 10 | 20 | 0.2 |
H2S | 20 | 40 | 0.25 | PH3 | 78 | ||
