高壓離子棒水處理器是根據(jù)新一代的物理水處理原理，其主要是由棒體合金復(fù)合探頭和產(chǎn)生高壓電的電控箱組成。靜電水處理屬于物理方法,它與化學(xué)方法不同,基本上不是靠改變水中的離子成分中達(dá)到水處理目的,而是通過高壓或低壓靜電場的作用,改變水分子結(jié)構(gòu)或改變水分子中電子構(gòu)造,致使水中所含陽離子不致趨向器壁,更不致在器壁集聚,從而達(dá)到防垢、除垢、殺菌、滅藻、緩蝕的目的。
高壓離子棒水處理器運(yùn)行與維護(hù)：
1．高壓離子棒水處理器正常情況下，要定期觀察記錄指示燈的亮度，以確定BZL離子棒靜電水處理器是否正常工作外（指示燈亮，工作正常）；
2．用戶應(yīng)根據(jù)系統(tǒng)實(shí)際情況，定期及時進(jìn)行排污。采用離子棒處理以后，比常規(guī)化學(xué)水處理更會增加系統(tǒng)中懸浮離子的數(shù)量，因此及時排污是必要的。
2.1系統(tǒng)在安裝使用離子棒以后，在高壓靜電場的作用下，水腫的鈣硬度不會附著在管壁上形成硬垢，而水中過量的鈣硬度會以軟垢的形式從水中析出而不會附著在管壁上，這種松散的軟垢回被水流的帶走，在系統(tǒng)管路的低流速端沉積，因此即使將其從系統(tǒng)中排出是保障離子棒發(fā)揮性能的重要條件。尤其在系統(tǒng)原來已經(jīng)結(jié)垢的情況下，更要加強(qiáng)排污，根據(jù)系統(tǒng)的不同，一般要每天檢查排污。
2.2排污時間
在系統(tǒng)中已有結(jié)垢的情況下，要提高排污的頻率，一般每天要排污一次。在系統(tǒng)中沒有結(jié)垢的情況下，可以通過電導(dǎo)率的測試來指導(dǎo)排污。水中的鈣硬度與電導(dǎo)率有一個對應(yīng)關(guān)系，一般說來，對同一水質(zhì)電導(dǎo)率高的其鈣硬度也相應(yīng)要高一些。當(dāng)測得鈣硬度或電導(dǎo)率高于一定的值，則說明系統(tǒng)需要排污了?？偟臉?biāo)準(zhǔn)為水質(zhì)硬度不應(yīng)超過1000mg/L。
2.3電導(dǎo)率測試水樣的采集
水樣的采集，要遵循從那里排污就從那里取水樣的原則。在系統(tǒng)的排污區(qū)段（通常設(shè)在低流速區(qū)），水的電導(dǎo)率及鈣硬度要高于系統(tǒng)的其它區(qū)段，必要時可以記錄排污水量及鈣硬度的變化，以達(dá)到的經(jīng)濟(jì)性。
3．過濾：可以在系統(tǒng)的低流速區(qū)設(shè)立過濾器，將系統(tǒng)中的懸浮物去除，可以使離子棒發(fā)揮的效果，濾網(wǎng)的規(guī)格以能出去水中大部分懸浮物為原則。
4．在離子棒運(yùn)行的過程中，當(dāng)改變水處理方法時，注意不要引起系統(tǒng)沖擊。例如中斷化學(xué)方法水處理時，化學(xué)藥劑的加入量要逐漸減少。
5．為獲得離子棒處理的效果，離子棒的探頭要保持清潔，一般情況下，每半年進(jìn)行清洗一次。為了防止離子棒探頭外表面的特氟隆層損傷，宜用干凈的軟布或泡沫塑料輕輕擦拭，然后用清水沖洗即可。
6．儀器出廠前已調(diào)試完畢，用戶不可自行打開儀器。
7．系統(tǒng)停止工作時，應(yīng)關(guān)斷離子棒電源，以延長其使用時長。
8．高壓離子棒水處理器需檢修時，應(yīng)切斷電源，并將探頭高壓端對地放電。
