| 視頻 |
| |||||||||||||||
| 主要參數(shù) | 輸入電源：220VAC 50/60Hz
濺射電流：0-150 mA可調(diào)
功率：＜2KW
輸出電壓：1600VDC | |||||||||||||||
| 濺射腔體 | 采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x 290mm H
密封：采用O形密封圈密封 | |||||||||||||||
| 濺射頭&樣品臺(tái) | 2英寸帶水冷的磁控濺射頭（注意：水冷機(jī)不是標(biāo)配）另有1英寸靶頭可選（圖一）
一個(gè)直徑50mm不銹鋼樣品臺(tái)，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào) （圖五）
安裝有一可手動(dòng)操作的濺射擋板（圖二、三）
樣品臺(tái)和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍：30-80mm（圖二、三）
靶頭支架，可以在非濺射狀態(tài)放置濺射靶頭（圖四）
實(shí)驗(yàn)效果 | |||||||||||||||
| 控制面板 | 6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 | |||||||||||||||
| 真空系統(tǒng) | 安裝有KF25真空接口
數(shù)字真空壓力表（Pa）
此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含）
采用機(jī)械泵<1.0e-2>
采用渦旋分子泵<1.0e-5>
可在本公司選購(gòu)各種真空泵 | |||||||||||||||
| 進(jìn)氣 | 含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥
本設(shè)備接氣需要安裝減壓閥（可在我公司選購(gòu)減壓閥） | |||||||||||||||
| 靶材 | 靶材尺寸要求：Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度)
適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬（可在我公司選購(gòu)） | |||||||||||||||
| 可選配件 | 可在本公司選購(gòu)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上（見圖一）
可選加熱樣品臺(tái)，可加熱500℃（見圖二、三）
可選浮子流量計(jì)來精確控制進(jìn)氣量（見圖四）
| |||||||||||||||
| 產(chǎn)品外型尺寸 | L460 mm × W 330 mm × H 520 mm 凈重：20 kg（不包含泵及水冷機(jī)） | |||||||||||||||
| 質(zhì)量認(rèn)證 |
| |||||||||||||||
| 質(zhì)保 | 一年保修，終身技術(shù)支持
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)
| |||||||||||||||
| 各種靶材的參數(shù)（僅供參考） | 對(duì)于濺射各種金屬靶材，需要摸索的濺射參數(shù)，下表是本公司實(shí)驗(yàn)所設(shè)置的參數(shù)（參考值，詳情請(qǐng)點(diǎn)擊）
| |||||||||||||||
| 使用提示 | 有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，需要多次濺射鍍膜
在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈
要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面
超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分
等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物
制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力
此濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射
| |||||||||||||||
| 警告 | 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。
氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶 |
