CCI MP:

單一測量模式，新一代白光干涉儀

光學干涉測量技術

? 非壓電陶瓷閉環(huán)Z軸掃描控制，2.2毫米掃描范圍

? 改進后的拼接功能，使Z軸量程可達100毫米

? 1024 x 1024像素陣列可獲得高分辨率的大視場

? 增強了角度靈敏度，能夠得到更好的測量數(shù)據(jù)

從實質(zhì)上消除測量的不確定性

? RMS重復性小于0.2埃，臺階高度重復性小于0.1%

? 整個測量量程有著0.1埃分辨率

? FEA優(yōu)化機械設計，具備出色的R&R能力

? 采用ISO標準的校準，確保結果的可信度

追求長期成本效益的堅固耐用設計

? 非壓電Z軸掃描控制可省去昂貴的維修費用

? 自動表面檢測可防止撞壞鏡頭

? 內(nèi)置自我診斷工具可快速、輕松地排除故障

? 操作的簡便性可減少使用者出錯可能

64位控制和分析軟件

? 包括中文、日文在內(nèi)的多語種支持

? 兼容大多數(shù)計算機平臺，有利于開展合作性研究項目

? 提供多種新工具，包括3D表面隨時間演變過程中進行4D分析

? 根據(jù)多批次測量數(shù)據(jù)自動生成報告

了解表面微觀結構

具有大視場和高分辨率，可觀察復雜的表面結構。

辨識拋光缺陷

CCI為我們團隊在精密工程和表面特征的研究領域始終保持地位提供了極大的幫助。

Dr S.V Rama Gopal

科學家, Aspherics Group, CSIO, 印度

通過高分辨率的三維圖像能夠簡單快速地識別如彗尾等拋光缺陷。

高性能的CCI MP是科研和制造的測量手段。

大量程、高分辨率、高準確性和高可靠性–取得成功的四大要素

無論哪種零件、無論多快的分析速度，CCI MP均可保證三維面形測量結果的準確性。配備1/10埃垂直分辨率的一百萬像素高性能攝像頭，可對極為粗糙到非常光滑的所有表面進行細致全面的分析。

功能豐富–可隨時用于生產(chǎn)運營或研究項目

時刻與研發(fā)人員和科學家的專業(yè)技術同步發(fā)展，CCI MP能夠滿足包括太陽能、光學和醫(yī)療器械等領域提出的的測量要求。高級數(shù)據(jù)拼接功能拓展了儀器的可測量范圍。

使用的簡便性可減少操作員的培訓成本

即便不常使用，也無需對操作員重新進行培訓和指導。CCI MP的設計便于科學家、學生、開發(fā)人員或生產(chǎn)檢查人員使用。CCI MP的創(chuàng)新功能如自動量程和自動條紋尋找等，可以簡化樣品的調(diào)整過程。為用戶節(jié)省時間、減少錯誤并快速得出所需結果。

完整的平臺簡化ISO-17025的集成

不需要增加程序的復雜性就可使用戶的分析能力得到極大提高。也不需要測量模式間進行復雜的切換，以及測量過程中校準鏡頭，就可以測量多種多樣零件和表面。標準化的模式、程序和報告功能，使CCI MP可輕松集成到用戶的質(zhì)量管理系統(tǒng)。