產(chǎn)地：德國 ：天津科贏科技有限公司 產(chǎn)品描述
德國chemtronStrike 20 旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀可應(yīng)用于工業(yè)和實驗室，
所有與蒸汽和液體接觸部件均采用硼硅玻璃或PTFE 材質(zhì)，幾乎可以適用任何物料。
可以把易揮發(fā)性成分（低沸點）從剩余的高沸點物料中分離出來。
真空度可以達到8mbar，加熱浴槽溫度150℃，3kw 加熱功率。
所有與蒸汽和液體接觸部件均采用硼硅玻璃或PTFE 材質(zhì)，幾乎可以適用任何物料。
可以把易揮發(fā)性成分（低沸點）從剩余的高沸點物料中分離出來。
真空度可以達到8mbar，加熱浴槽溫度150℃，3kw 加熱功率。
加熱浴槽
加熱槽通過一個液壓系統(tǒng)，在斷電的情況下會自動下降，以避免被分離樣品過熱。
密封系統(tǒng)
Strike 20 的特色技術(shù)就是它的密封系統(tǒng)，采用免維護材料,
形成一個真空密封體系，該密封系統(tǒng)不需要任何維護。
壓力和溫度
Strike 20 可以在常壓或真空條件下運行， 真空度可以達到8mbar。
減少了樣品的處理時間， 適用于在低蒸發(fā)溫度下提取組分。
恒溫槽介質(zhì)可使用水或?qū)嵊?，溫度可達150℃；
它也允許任何溶劑蒸發(fā)。加熱浴槽提供兩3kw 的電加熱器。
通過觸摸屏可對以下參數(shù)進行測量，顯示和控制
* 加熱浴槽設(shè)置溫度和實際溫度
* 蒸汽設(shè)定溫度和實際溫度
* 蒸發(fā)瓶旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定值和實際值
* 真空度設(shè)定值和實際值 (已標標配了真空控制器
| 應(yīng)用范圍 * 蒸餾（連續(xù)和間歇） * 溶劑回收 * 回流反應(yīng)過程 * 組件干燥 * 化學(xué)合成 * 結(jié)晶 * 提取 * 凈化 * 研究 | 應(yīng)用領(lǐng)域 * 制藥 * 化學(xué) * 化妝品 * 草本植物提取 * 餐飲 * 研究 * 石化 |
Measurement, display and data recording of the following Parameters:
* Set and actual temperature value of the bath
* Set and actual vapour temperature value
* Set and actual rotation speed value of the evaporation flask
* Set and actual vacuum value (vacuum controller included as 支架ard)
技術(shù)指標
| 加熱浴槽 | |
| 溫度范圍 ℃ | 室溫~150 |
| 溫度精度 ℃ | ±2 |
| 分辨率 ℃ | 0.1 |
| 溫度設(shè)置 | 可設(shè)置 (1℃ 增減) |
| 溫度控制方式 | PID |
| 溫度波動度 ℃ | ±3 |
| 加熱功率 kW | 3 |
| 加熱器功率/ 密度 | ≤3W / cm2 |
| 過溫保護功能 | √ |
| 溫度傳感器 | PT100 |
| 液位 | 手動 |
| 蒸發(fā)溫度 | |
| 溫度范圍 ℃ | 室溫 ... 150 |
| 溫度精度 ℃ | ±2 |
| 分辨率 ℃ | 0.1 |
| 溫度傳感器 | PT100 |
| 轉(zhuǎn)速 | |
| 轉(zhuǎn)速范圍 Rpm | 10~150 |
| 轉(zhuǎn)速精度 Rpm | ±2 |
| 實際轉(zhuǎn)速顯示 | √ |
| 轉(zhuǎn)速分辨率 Rpm | 1 |
| 真空控制 | |
| 真空范圍 mbar | 8~ 常壓 |
| 真空精度 mbar | ±5mbar |
| 真空分辨率 mbar | 1 |
| 實際真空值顯示 | √ |
| 顯示方式 | 數(shù)字顯示 |
| 真空值設(shè)定 | √ |
| 升降支架 | |
| 開/ 關(guān) | √ |
| 電動 | √ |
