PDA-5500S集合了精華，工廠校正曲線與現(xiàn)場(chǎng)制作曲線相結(jié)合，可以進(jìn)行常規(guī)分析，還可以滿足各種復(fù)雜特殊材料的分析要求，對(duì)于鋼鐵、鋁合金、銅合金等各種樣品的分析均可以輕松應(yīng)對(duì)。
穩(wěn)定可靠的硬件，始終如一
良好的擴(kuò)展功能，遠(yuǎn)矚人性化操作軟件，易懂易用
低使用成本設(shè)計(jì)，經(jīng)濟(jì)實(shí)用
分光系統(tǒng)
· 凹面全息離子刻蝕光柵· 光柵焦距600mm
· 光柵刻線數(shù)2400條/mm
· 檢測(cè)波長(zhǎng)范圍120-800nm
· 激發(fā)電壓500V/300V軟件設(shè)置自動(dòng)轉(zhuǎn)換
· 6種激發(fā)光源
· 放電參數(shù)可根據(jù)不同分析要求調(diào)節(jié)
· 水平氬氣保護(hù)發(fā)光臺(tái)
數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)及分析軟件
· 外置式品牌計(jì)算機(jī)及打印機(jī)· Windows操作系統(tǒng)
· 易于操作的PDA-Win分析軟件包
· 數(shù)據(jù)管理功能
· 分析情報(bào)保護(hù)功能
電源和環(huán)境要求
· 220V±10%，50/60Hz，功率4KVA· 單獨(dú)地線＜30Ω（干燥地區(qū)＜10Ω）
· 溫度10-30℃（每小時(shí)變化＜5℃）
· 濕度 80%以下
· 重量約500kg，尺寸W1550×D620×H253
發(fā)射光譜分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）
所謂發(fā)射光譜分析是指使用放電等離子體蒸發(fā)氣化來(lái)激發(fā)樣品中的目標(biāo)元素，根據(jù)得到的元素固有的亮線光譜（原子光譜）的波長(zhǎng)進(jìn)行定性，并根據(jù)發(fā)光強(qiáng)度進(jìn)行定量的分析方法。
廣義上講，激發(fā)放電（光源）還包括使用ICP（Inductively coupled plasma 電感耦合等離子體）作為激發(fā)放電（光源）的ICP發(fā)射光譜分析。但發(fā)射光譜分析（發(fā)光分析）或光電測(cè)光式發(fā)射光譜分析，是指使用火花放電/直流電弧放電 /輝光放電作為激發(fā)放電的發(fā)射光譜分析。發(fā)射光譜分析中，在固體金屬樣品和與電極之間發(fā)生放電。
發(fā)射光譜分析裝置是在氬氣氛圍中進(jìn)行火花放電，對(duì)火花脈沖的發(fā)光進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理，采用可提高測(cè)定重現(xiàn)性（精度）的方式（PDA測(cè)光方式：Pulse Distribution Analysis）。
發(fā)射光譜分析裝置可快速測(cè)定固體金屬樣品的元素組成，是在煉鐵、鋁冶煉工藝管理用中的手段。
