產(chǎn)品簡介：
全新立式全譜光譜采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、的ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。
產(chǎn)品定位：
金屬材料領(lǐng)域*的全譜直讀光譜儀
檢測基體：
鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
全新立式全譜光譜采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。
技術(shù)參數(shù)：
光學系統(tǒng)：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)；
波長范圍：120nm~589nm
焦距：400mm
探測器：高性能CCD陣列
光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率：100-1000Hz
放電電流：zui大400A
工作電源：220VAC 50/60Hz
儀器尺寸：650*860*1200
儀器重量：約235kg（不含真空系統(tǒng)）
檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右
電極：鎢材噴射電
光學恒溫：34℃± 0.3℃
氬氣要求：99.999％
氬氣進口壓力：0.5MPa
氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min
工作溫度：10℃～35℃
工作濕度：20％～85％
分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測
產(chǎn)品特色：
優(yōu)化設(shè)計的真空光學系統(tǒng)
1、整體光學室裝置、帕邢-龍格結(jié)構(gòu)設(shè)計，所有譜線集成在羅欄園上；
2、直射式光學技術(shù)及透鏡ＭｇＦ２材料，保證Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波長的能量。
全數(shù)字激發(fā)光源
1、全數(shù)字、高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS），不同樣品設(shè)置不同的激發(fā)參數(shù)，提高樣品的測量精；
2、和相似性，提高樣品激發(fā)速度，提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現(xiàn)性。
功能性設(shè)計的激發(fā)裝置
1、集成氣路、噴射電極技術(shù)，開放式銅火花臺，不僅保證樣品測量精度還能購測量各種復(fù)雜形狀的樣品（含線材）；
2、單板式透鏡裝置設(shè)計，一般人員都能方便對激發(fā)臺進行進行維護和透鏡的清洗。
高集成、高速度讀出系統(tǒng)
1、高性能CCD固態(tài)檢測技術(shù)，波段內(nèi)譜線全譜接收；
2、FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強大，檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短。
直觀、易操作的分析軟件
1、基于WINDOWS系統(tǒng)的多國語言的ＣＣＤ全譜分析軟件的管理和控制整個測量過程，為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力；
2、儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*的解決方案；
3、儀器實現(xiàn)全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，極大的提高了儀器的分析能力。
