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  • 牛津儀器等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD) PlasmaPro 100

牛津儀器等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD) PlasmaPro 100

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-04-02
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量185
  • 人氣值1686
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上海繪吉電子科技有限公司主要代理歐、美、日及國內(nèi)*科學(xué)儀器、工業(yè)質(zhì)檢儀器及相關(guān)消耗品,專業(yè)涉及高校、新能源、鋼鐵行業(yè)、科研研究及輕工化工、在國內(nèi)特別是華東地區(qū)具有廣泛的客戶基礎(chǔ)和良好的商業(yè)信譽(yù)。經(jīng)過幾年的發(fā)展,繪吉公司已經(jīng)在同行業(yè)中確立了多方面的好的地位,無論在公司規(guī)模、人員素質(zhì)、經(jīng)營品種、銷售能力和售后服務(wù)等各方面獲得了同行及用戶的廣泛認(rèn)可。 上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀,真空系列等分析類設(shè)備),電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。。
上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀等分析類設(shè)備),德國普發(fā)真空設(shè)備,電池材料制備設(shè)備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。
上海繪吉-德國普發(fā)真空Pfeiffer Vacuum-作為*的真空技術(shù)解決方案的供應(yīng)商之一。我們不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵, 同時還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,氦氣質(zhì)譜檢漏儀,真空規(guī),四級質(zhì)譜儀等產(chǎn)品以及真空管件和綜合真空系統(tǒng)。 從普發(fā)1958年發(fā)明渦輪分子泵至今, 我們在分析、研發(fā)、鍍膜、太陽能、半導(dǎo)體和其他工業(yè)領(lǐng)域,始終代表著創(chuàng)新的解決方案、高品質(zhì)、穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品和的服務(wù)。公司自1890年創(chuàng)立至今百余年,現(xiàn)有將近2300名員工,20多家分公司遍布,并且在德國、法國、羅馬尼亞、韓國設(shè)有生產(chǎn)制造基地。
隨著中國綜合國力的提升,產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級,以及對節(jié)能減排,科研和高精尖制造工藝的強(qiáng)烈需求,對真空技術(shù)的需求也在不斷的提升。作為德國 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全資子公司,普發(fā)真空技術(shù)上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入駐中國上海,標(biāo)志著普發(fā)真空在中國的業(yè)務(wù)已經(jīng)初具規(guī)模,以及公司對中國持續(xù)增長的信心。公司現(xiàn)坐落于上海市浦東新區(qū)世紀(jì)公園附近,并且在江蘇無錫建有 4000m2 的售后服務(wù)工廠。
上海繪吉電子科技有限公司獲得深圳科晶智達(dá)科技有限公司一級代理權(quán),科晶為研究新一代可充電電池,超級電容器與快速儲能材料提供完整的成套解決方案。方案定位于鋰電池的研究市場,主要為大專院校、科研院所以及生產(chǎn)企業(yè)提供實驗室用的小型混壓設(shè)備和機(jī)械加工與測試等一系列產(chǎn)品,提供研發(fā)環(huán)節(jié)所需的電池能源材料制備相關(guān)設(shè)備產(chǎn)品與成套實驗室方案:“混料-燒料-分析-涂層-成型-封裝-測試”設(shè)備:球磨機(jī)、高溫高壓爐、材料分析儀、涂層機(jī)、軋機(jī)、切片機(jī)、封裝機(jī)、電池分析儀等。
上海繪吉電子科技有限公司成功和進(jìn)口公司合作。德國普發(fā)真空設(shè)備,德國布魯克儀器有限公司,*分析儀器有限公司,美國PE公司,美國熱電儀器有限公司,天美科技有限公司,島津,萊卡儀器,日本horriba,梅特勒等進(jìn)口公司

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牛津儀器等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD) PlasmaPro 100
牛津儀器等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD) PlasmaPro 100 產(chǎn)品詳情

System 100 -等離子刻蝕與沉積設(shè)備

   該設(shè)備是一個靈活和功能強(qiáng)大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備。 采用真空進(jìn)樣室進(jìn)樣可進(jìn)行快速的晶片更換、采用多種工藝氣體并擴(kuò)大了允許的溫度范圍。

 
  具有的工藝靈活性,適用于化合物半導(dǎo)體,光電子學(xué),光子學(xué),微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù), PlasmalabSystem100可以有很多的配置,詳情如下。


主要特點

  • 可處理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")預(yù)制和試生產(chǎn)的能力

  • 選擇單晶片/批處理或盒式進(jìn)樣,采用真空進(jìn)樣室。 該PlasmalabSystem100可以集成到一個集群系統(tǒng)中,采用機(jī)械手傳送晶片,生產(chǎn)工藝中采用全片盒到片盒晶片傳送. 采用一系列的電極進(jìn)行襯底溫度控制,其溫度范圍為-150 ° C至700° C

  • 用于終端檢測的激光干涉和/或光發(fā)射譜可安裝在Plasmalab System100以加強(qiáng)刻蝕控制

  • 選的6 或12路氣箱為工藝流程和工藝氣體提供了選擇上的靈活性,并可以放置在遠(yuǎn)端,遠(yuǎn)離主要工藝設(shè)備


工藝
一些使用Plasmalab System100等離子刻蝕與沉積設(shè)備的例子:

  • 低溫硅刻蝕,深硅刻蝕和SOI工藝,應(yīng)用于MEMS ,微流體技術(shù)和光子技術(shù)

  • 用于激光器端面的III - V族刻蝕工藝,通過刻蝕孔、光子晶體和許多其他應(yīng)用,材料范圍廣泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等)

  •  GaN、AlGaN等的預(yù)生產(chǎn)和研發(fā)工藝,比如HBLED和其它功率器件的刻蝕

  • 高品質(zhì),高速率SiO2沉積,應(yīng)用于光子器件

  • 金屬(Nb, W)刻蝕


    的單晶片刻蝕技術(shù)-PlasmaPro100 Sapphire。牛津儀器致力于固態(tài)照明的技術(shù)革新,憑著在HBLED相關(guān)材料方面經(jīng)驗豐富,設(shè)備使用成本控制和符合產(chǎn)量要求的同時,我們的新技術(shù)還可以地提高客戶的產(chǎn)品良率。
    針對HBLED茍刻的化學(xué)環(huán)境要求,PlasmaPro100 Sapphire具有特殊的設(shè)計,可以在直徑為200mm的晶片上進(jìn)行快速和均勻的刻蝕。牛津儀器一直努力地為客戶提供創(chuàng)新的、有效控制成本和可靠的工藝方案。這個設(shè)計的設(shè)備滿足了所有的要求。
   主要特點和優(yōu)勢包括:具有的靜電吸盤技術(shù),能固定藍(lán)寶石,和生長藍(lán)寶石或硅上的氮化鎵;高功率的ICP能生產(chǎn)出高密度的等離子體;磁隔離區(qū)可提高離子控制和均勻性;高電導(dǎo)泵水系統(tǒng)可以在低壓下地運送氣體。

關(guān)鍵詞:機(jī)械手
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