橢圓率計(jì) (測(cè)量膜厚 多層膜解析 測(cè)量光彈性) M-series ▼概要日日本分光制的橢圓計(jì)配有日本分光產(chǎn)的PEM雙重鎖定方式和光伺服?光參考方式,實(shí)現(xiàn)高速性和高安定性。由于偏光素子的軸配置適合特別薄的膜和微小的偏光測(cè)量,所以主要用于向高集積化和高精細(xì)化發(fā)展的半導(dǎo)體及高機(jī)能光學(xué)薄膜等材料的評(píng)價(jià)。
◆規(guī)格▼M-210/220/230/240/550/ELC-300 型號(hào) | M-210 | M-220 | M-230 | M-240 | M-550 | ELC-300 | 測(cè)量方法 | PEM雙重鎖定方式、光伺服/光參照控制方式 | 分光器 | - | 雙單色器 自動(dòng)波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)裝置 | 雙單色器 (260~900nm) 單單色器 (900~1700nm) 自動(dòng)波長(zhǎng) 驅(qū)動(dòng)裝置 | 單單色器 自動(dòng)波長(zhǎng) 驅(qū)動(dòng)裝置 | 雙單色器 自動(dòng)波長(zhǎng) 驅(qū)動(dòng)裝置 | 測(cè)量波長(zhǎng) | He-Ne激光 (632.8nm) | He-Ne激光(632.8nm) Xe光源 (260~860nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (240~700nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (26~900nm) 鹵素?zé)?br /> (900~1700nm) | Xe光源 (350~800nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260~860nm) | 入射角范圍 | 40゜~ 90゜ 連續(xù)自動(dòng)設(shè)定 (0.01゜間隔) | 45゜~ 90゜ 連續(xù)自動(dòng)設(shè)定 (0.01゜間隔) | 40゜~ 90゜ 連續(xù)自動(dòng)設(shè)定 (0.01゜間隔) | 膜厚測(cè)量范圍 | 0~99999? | 測(cè)量時(shí)間 | 1msec以上 | 20μsec~16sec | 測(cè)量準(zhǔn)確度* | 屈折率 ±0.01 | 膜厚 ±1? | 消衰係數(shù) ±0.01 | *準(zhǔn)確度是指測(cè)量時(shí)間100msec以上。另外、根據(jù)表面狀態(tài)、膜質(zhì)不同準(zhǔn)確度也不同。 | 樣品室 | 樣品垂直放 | 樣品水平放 | 樣品垂直放 | 檢測(cè)器 | 檢光子(Glan-Taylor棱鏡) 紫外可見(jiàn)區(qū)域:光電子倍増管 近紅外區(qū)域:InGaAs-PIN光電二極管(M-240) | |
▼軟件 主機(jī)標(biāo)準(zhǔn) | 1.時(shí)間變化測(cè)量 2.膜厚測(cè)量 3.Δ-Ψ模擬 4.光譜測(cè)量?解析*1 5.誘電率計(jì)算*1 6.反射率計(jì)算*1 *1 M-210型號(hào)不是分光型不可使用 | 選項(xiàng)程序 | 1. 映射測(cè)量(自動(dòng)X-θ帶映射臺(tái)) 2.多層膜解析*2 3.多入射角測(cè)量 4.靈敏度模擬*2 5.波長(zhǎng)Cauchy光譜*3 6.橢圓率測(cè)量?解析、測(cè)量波長(zhǎng)固定復(fù)屈折(帶異方性解析臺(tái))*3 7.測(cè)量3次元屈折率(需要異方性解析臺(tái))*3 8.測(cè)量光弾性定數(shù)(帶光弾性測(cè)量用透過(guò)臺(tái))*3 *2 M-210不是分光型的不能使用 *3 M-550不能測(cè)量透過(guò)不能使用。 | |
◆規(guī)格▼M-210/220/230/240/550/ELC-300 型號(hào) | M-210 | M-220 | M-230 | M-240 | M-550 | ELC-300 | 測(cè)量方法 | PEM雙重鎖定方式、光伺服/光參照控制方式 | 分光器 | - | 雙單色器 自動(dòng)波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)裝置 | 雙單色器 (260~900nm) 單單色器 (900~1700nm) 自動(dòng)波長(zhǎng) 驅(qū)動(dòng)裝置 | 單單色器 自動(dòng)波長(zhǎng) 驅(qū)動(dòng)裝置 | 雙單色器 自動(dòng)波長(zhǎng) 驅(qū)動(dòng)裝置 | 測(cè)量波長(zhǎng) | He-Ne激光 (632.8nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260~860nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (240~700nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (26~900nm) 鹵素?zé)?br /> (900~1700nm) | Xe光源 (350~800nm) | He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260~860nm) | 入射 角范圍 | 40゜~ 90゜ 連續(xù)自動(dòng)設(shè)定 (0.01゜間隔) | 45゜~ 90゜ 連續(xù)自動(dòng)設(shè)定 (0.01゜間隔) | 40゜~ 90゜ 連續(xù)自動(dòng)設(shè)定 (0.01゜間隔) | 膜厚測(cè)量范圍 | 0~99999? | 測(cè)量時(shí)間 | 1msec以上 | 20μsec~16sec | 測(cè)量準(zhǔn)確度* | 屈折率 ±0.01 | 膜厚 ±1? | 消衰係數(shù) ±0.01 | *準(zhǔn)確度是指測(cè)量時(shí)間100msec以上。另外、根據(jù)表面狀態(tài)、膜質(zhì)不同準(zhǔn)確度也不同。 | 樣品室 | 樣品垂直放 | 樣品水平放 | 樣品垂直放 | 檢測(cè)器 | 檢光子(Glan-Taylor棱鏡) 紫外可見(jiàn)區(qū)域:光電子倍増管 近紅外區(qū)域:InGaAs-PIN光電二極管(M-240) | |
▼軟件 主機(jī)標(biāo)準(zhǔn) | 1.時(shí)間變化測(cè)量 2.膜厚測(cè)量 3.Δ-Ψ模擬 4.光譜測(cè)量?解析*1 5.誘電率計(jì)算*1 6.反射率計(jì)算*1 *1 M-210型號(hào)不是分光型不可使用 | 選項(xiàng)程序 | 1. 映射測(cè)量(自動(dòng)X-θ帶映射臺(tái)) 2.多層膜解析*2 3.多入射角測(cè)量 4.靈敏度模擬*2 5.波長(zhǎng)Cauchy光譜*3 6.橢圓率測(cè)量?解析、測(cè)量波長(zhǎng)固定復(fù)屈折(帶異方性解析臺(tái))*3 7.測(cè)量3次元屈折率(需要異方性解析臺(tái))*3 8.測(cè)量光弾性定數(shù)(帶光弾性測(cè)量用透過(guò)臺(tái))*3 *2 M-210不是分光型的不能使用 *3 M-550不能測(cè)量透過(guò)不能使用。 | |