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  • PHI X-tool 全自動掃描型微區(qū)探針

PHI X-tool 全自動掃描型微區(qū)探針

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-05-10
  • 廠商性質生產廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數量222
  • 人氣值2448
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作為Thermo Science(賽默飛)、ZEISS(蔡司)、 Zwick(茲維克)和INNOVATEST(軼諾)品牌的核心代理商,禹重科技®(UZONGLAB)將*的分析測試前沿技術和產品帶給國內客戶,為高校、科研院所、政府機構以及材質工業(yè)過程控制等行業(yè),提供金屬和非金屬材料的成分分析儀器、表面分析儀器、硬度和力學設備以及樣品前處理平臺等儀器產品,同時提供標準樣品和小型試驗設備銷售、材料測試咨詢等綜合服務。

從冶金鑄造和功能材料的開發(fā);船舶建造和石化裝備升級換代;到汽車零部件和電子電工的可靠性測試;環(huán)境檢測和工業(yè)品品質的不斷提升,禹重科技®(UZONGLAB)在這些方面都發(fā)揮著實實在在的作用。

我們具備豐富的經驗,充分了解每個客戶的核心需求,并致力于提供Z佳的解決方案。為客戶提供更專業(yè)、更安全、更便捷的產品和服務是我們的*目標。

 

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PHI X-tool是一款操作簡單,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統(tǒng),可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統(tǒng)的XPS相比,不采用光闌進行選區(qū),極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時,不需要增加磁透鏡,即可得到**的靈敏度及**的信噪比,即使磁性樣品,也可輕松應對。
PHI X-tool 全自動掃描型微區(qū)探針 產品詳情

PHI X-tool是一款操作簡單,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統(tǒng),可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統(tǒng)的XPS相比,不采用光闌進行選區(qū),極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時,不需要增加磁透鏡,即可得到**的靈敏度及**的信噪比,即使磁性樣品,也可輕松應對。

性能特點

**的操作性

PHI X-tool軟件支持直觀的觸摸屏操作,所有XPS測定過程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動操作模式和自動操作模式(自動定性、定量、分析及完成報告),操作者無論是否具有豐富的XPS操作經驗,均能輕松應對。
自動參數設定、自動完成報告

PHI X-tool具備自動對焦功能(Auto-Z),使分析位置處于X射線的焦平面上,得到**的分析條件。其可實現中和參數的自動匹配,無論樣品的導電性如何,均可輕松應對。
自動定性:實現譜峰自動識別
自動定量:自動選定譜峰定量范圍
自動曲線擬合:可自動實現預定條件的曲線擬合
自動生成實驗報告
多方式樣品觀察

在XPS分析中,樣品觀察,特別是微區(qū)定位至關重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進行樣品觀察:a. 進樣室高空間分辨率圖像;b. 實時CCD成像;c. 二次電子像(SXI)。利用這幾種方法觀察樣品,不論樣品大小,表面形貌如何均可輕松確定測試位置。
詳細的條件設定和直觀的操作

結合材料和目的,可詳細設定分析的條件。通過內置元素周期表,可設定各光電子峰和俄歇峰。通過更改通過能、步長、積分時間設定窄譜掃描參數。對每個樣品可設置習慣的文件名和樣品名稱。
快速化學成像

采用掃描X射線和高靈敏度檢測器及非掃描模式,可實現快速成像分析。每個點都可以直接調取全部的譜數據。化學態(tài)成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標一致。
采用PHI的***硬件設計

微聚焦掃描X-ray源;
雙束中和系統(tǒng),低能離子束及低能電子束自動配合;
浮動離子*,離子加速電壓條件范圍可達0~5kV

應用領域

Micro-Electronics 微電子, 電子封裝
Polymer 高份子材料
Tribology 摩擦學
Magnetic 磁性材料, 硬盤, 藍光光盤
Display Industries 顯示工業(yè)
Graphene 石墨稀
Catalysis 催化劑
Energy related 能源產業(yè)
Glass 玻璃
Metal 金屬
Ceramic 陶瓷
Semi-conductors 半導體
Bio-Medical 生醫(yī)科學

關鍵詞:觸摸屏
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