產(chǎn)品介紹：
Chimera冷卻系統(tǒng)同樣用于粉末X射線衍射平臺，利用封閉循環(huán)的He氣對樣品臺進行控溫。適用于反射模式的垂直測角儀，為粉末樣品的高低溫實驗提供溫控方案。
原理同PheniX冷卻系統(tǒng)，無需液氦的消耗
適用于市場上大多數(shù)垂直測角儀；
可進行遠程監(jiān)視、控制；
用于反射模式衍射實驗，非常適合粉末樣品的相變分析
技術參數(shù)
溫度范圍 | 70-525K |
控溫精度 | 0.1 K |
降溫速度 | 525K~室溫，用時50 min 室溫~100K，用時35 min |
升溫速度 | 100K~室溫，用時40 min 室溫~525K，用時40 min |
冷卻介質(zhì) | 封閉循環(huán)的氦氣 |
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