二手現(xiàn)貨佳能光刻機(jī)FPA-5510iX，可在 50 mm x 50 mm 的大曝光場(chǎng)上提供 0.5 um 的分辨率在單次曝光中曝光大視野的能力為 FPA-5510iX 提供了很大的優(yōu)勢(shì)。
特征和優(yōu)勢(shì)
FPA-5510iX 步進(jìn)器提供大視場(chǎng)設(shè)備成像，無(wú)需拼接相鄰視場(chǎng)
FPA-5510iX 步進(jìn)器采用高 NA、1/2 縮小投影鏡頭，可在 50 mm x 50 mm 的大曝光場(chǎng)上提供 0.5 um 的分辨率。FPA-5510iX 適用于需要大場(chǎng)曝光的產(chǎn)品，例如 *MEMS 設(shè)備和圖像傳感器，它們可能需要比前端 (FEOL) 光刻曝光區(qū)域 (26mm x 33mm) 更大的場(chǎng)，并且可以避免從圖像質(zhì)量和生產(chǎn)率的角度來(lái)看，這是不利的圖案縫合。FPA-5510iX 在單次曝光中曝光大視野的能力為 FPA-5510iX 提供了很大的優(yōu)勢(shì)。
- MEMS
MEMS：“微機(jī)電系統(tǒng)”或 MEMS 是具有微米級(jí)機(jī)械結(jié)構(gòu)的設(shè)備，集成了傳感器、執(zhí)行器和電子電路。 - 拼接曝光：通過連接兩個(gè)或多個(gè)相鄰曝光區(qū)域來(lái)增加曝光場(chǎng)大小的方法。相鄰曝光區(qū)域的定位精度和對(duì)準(zhǔn)直接影響良率。
FPA-5510iX 步進(jìn)器通過成熟的 FPA-5510 平臺(tái)提供穩(wěn)定的性能
FPA-5510平臺(tái)步進(jìn)器已被用于前端和后端處理，具有高利用率和可靠性。FPA-5510iX 步進(jìn)器基于該平臺(tái)構(gòu)建，可提供與早期 FPA-5510iZ 和 FPA-5510iV 步進(jìn)器相同的擁有成本優(yōu)勢(shì)。
FPA-5510iX 步進(jìn)器兼容大量可選功能
FPA-5510iX 步進(jìn)器還可以配置可用選項(xiàng)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)齊和生產(chǎn)力優(yōu)化。
可用選項(xiàng)包括 WB-OAS (WideBand-OAS) 系統(tǒng)，該系統(tǒng)為工藝優(yōu)化提供了廣泛的對(duì)準(zhǔn)照明模式。通過覆蓋從可見光到紅外光的波段，可以通過彩色濾光片工藝的所有 RGB 層實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的對(duì)準(zhǔn)。WB-OAS 波長(zhǎng)還可以在背面照明 (BSI) 工藝中與硅晶片背面的標(biāo)記對(duì)齊。
疊加可以通過可選的 EAGA（增強(qiáng)型高級(jí)全局對(duì)齊）功能進(jìn)一步改進(jìn)，該功能提供逐場(chǎng)疊加測(cè)量和補(bǔ)償，允許步進(jìn)器補(bǔ)償非線性疊加誤差。
為了提高生產(chǎn)率，可以應(yīng)用可選的 OCCS（氧濃度控制系統(tǒng)功能）來(lái)降低晶圓和投影鏡頭之間區(qū)域的氧濃度。在這種低氧環(huán)境下，可以提高一些光刻膠的反應(yīng)靈敏度（速度）以減少所需的曝光劑量，從而提高產(chǎn)量。
