支持多重曝光、實(shí)現(xiàn)了超高精度與高產(chǎn)出的ArF液浸式掃描光刻機(jī)ArF液浸式掃描光刻機(jī) NSR-S622D
ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S622D專為20 nm以下制程的量產(chǎn)而開發(fā),且采用了Streamlign Platform。在維持了NSR-S621D的高產(chǎn)出的同時,提高了投影鏡頭的性能與自動對焦功能,從而實(shí)現(xiàn)了小于3.5 nm且支持多重曝光的光刻機(jī)間的重合精度(MMO : Mix and Match Overlay)。有助于設(shè)備量產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定運(yùn)轉(zhuǎn)。
特點(diǎn):
Bird's Eye Control重合精度的大幅度提高
通過高精度編碼器與以往的干涉儀構(gòu)成的混合系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了工作臺的性能
除了*的對焦控制外,精度與穩(wěn)定性也得到大幅度改善·實(shí)現(xiàn)了重合精度2nm以下的性能
Stream Alignment同時實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)出與高重合精度
通過大幅擴(kuò)大光束跨距的“直線自動對焦”,一次性映射在晶圓表面,提高了對焦控制精度
FIA實(shí)現(xiàn)5眼觀測,確保了生產(chǎn)效率的同時也增加了對準(zhǔn)測量點(diǎn)數(shù)
犬幅縮短了操作晶圓的時間
實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)出達(dá)每小時200片以上的性能Modular2 Structure
實(shí)現(xiàn)了可迅速進(jìn)行量產(chǎn)·模塊設(shè)計使維護(hù)更簡單
除了模塊設(shè)計外,還能更換更為細(xì)小的零件,因此不僅可維護(hù)性大幅提高,運(yùn)轉(zhuǎn)率也得到提高
具有高度可擴(kuò)展性的平臺設(shè)計,可在不同系列的裝置中使用