ASML KrF曝光機，二手光刻機AT: 850B-儀表網(wǎng)

公司介紹主營產(chǎn)品

公司主營實驗室分析檢測儀器設(shè)備，以實驗室整體建設(shè)為發(fā)展方向。公司目前涉及電子電器、醫(yī)藥生物、石油化工、食品、機械、新材料、環(huán)境、科研高校等諸多領(lǐng)域。聯(lián)合山東醫(yī)藥化工設(shè)計院，美國安捷倫、美國熱電、日本島津、江蘇天瑞等眾多品牌及多個***重點實驗室從實驗室布局設(shè)計出圖、基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)、儀器設(shè)備供應(yīng)、方法開發(fā)建立、后期運營管理，形成完整的專業(yè)實驗室建設(shè)體系，達(dá)到一站式服務(wù)，為眾多行業(yè)客戶提供更為完善的整體解決方案。
公司主營產(chǎn)品分為四大類，光譜儀、色譜儀、質(zhì)譜儀和環(huán)境在線檢測。
能量色散X熒光光譜儀（EDX）、波長色散X熒光光譜儀（WDX）、等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)
、光電直讀光譜儀(OES）、原子吸收分光光度計(AAS)、原子熒光光譜儀(AFS)、拉曼光譜儀（Raman)、碳硫分析儀(CS)、紅外光譜儀、礦漿載流分析儀(OSA)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（GC-MS)、液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（LC-MS)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）、水質(zhì)在線分析儀（WAOL）；

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產(chǎn)品簡介在線詢價

2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級光刻系統(tǒng)

ASML KrF曝光機，二手光刻機AT: 850B 產(chǎn)品詳情

2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF (248 nm) Step&Scan300mm雙級光刻系統(tǒng)。TWINSCAN AT:850B光刻機采用Carl Zeiss Starlith 850高級投影光學(xué)器件，數(shù)值孔徑 (NA)為0.80，這是KrF光刻機系統(tǒng)中可用的NA。

ASML光刻機, KRF曝光機

AT:850B光刻機具有行業(yè)的每小時95（300 毫米晶圓）的吞吐量，是 ASML 的 TWINSCAN雙級300毫米光刻平臺的成員。由于兩個階段同時工作，該平臺允許在另一個晶圓曝光的同時進行晶圓對齊和調(diào)平，從而大大提高了生產(chǎn)力和準(zhǔn)確性。對準(zhǔn)和調(diào)平臺與曝光操作的分離實際上消除了非生產(chǎn)性開銷時間，同時確保了制造精度。臺AT:850B系統(tǒng)將于本月交付給亞洲的一個主要客戶。

ASML KrF曝光機參數(shù)

ASML 預(yù)計 AT:850B 將成為一個大批量生產(chǎn)系統(tǒng)，用于廣泛的設(shè)備制造，包括110nm 及以下設(shè)計規(guī)則的非常*的存儲器和邏輯生產(chǎn)。ASML的高性能200mm光刻系統(tǒng)PAS 5500/850B™ 中也提供相同的Starlith 850高數(shù)值孔徑投影光學(xué)器件。隨著TWINSCAN AT:850B光刻機和PAS 5500/850B系光刻機的加入，ASML現(xiàn)在為300毫米或200毫米晶圓廠生產(chǎn)提供的擁有價值解決方案，在每種制造技術(shù)（i-line、KrF）中具有的NA和ArF。

“這些新的高NA系統(tǒng)是個使用KrF技術(shù)實現(xiàn)110nm特征尺寸芯片的批量生產(chǎn)，”ASML營銷和技術(shù)執(zhí)行副總裁Martin van den Brink說：“通過擴展經(jīng)過生產(chǎn)驗證的KrF技術(shù)，我們正在為我們的客戶提供一種強大的成本效益手段，以縮小現(xiàn)有芯片設(shè)計并更快地將的芯片推向市場?！?/span>

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