RE 30 | RE 70 | RE 100MN | RE 150MN | RAP 100MN | RAP 150MN | |
陽極電壓(kV) | 30 | 70 | 100 | 150 | 100 | 150 |
透視力(鐵mm) | - | 5 | 8 | 18 | 8 | 18 |
電壓可調(diào)范圍(kV) | 5-30 | 10-70 | 20-100 | 40-150 | 20-100 | 40-150 |
放射劑量率 (距目標(biāo)0.4米)(rad/min) | - | 0.5 | 1.0 | 2.0 | 1.0 | 2.0 |
焦點(diǎn)尺寸(mm) | 0.02 | 0.04 | 0.05 | 0.06 | 0.05 | 0.06 |
X射線發(fā)生器/控制器重量(kg) | 0.9 | 2.5 | 7.1/- | 8.6/- | 5.8/3.0 | 8.0/3.6 |
RAP-M X光裝置應(yīng)用范圍廣,包括微電子檢測系統(tǒng)、多層電路板檢測系統(tǒng)、BGA與μBGA粘接質(zhì)量控制、X射線斷層掃描,CT系統(tǒng)、航空航天標(biāo)準(zhǔn)件、焊接及小徑管無損檢測。