NMC-4000 MOVPE設(shè)備概述:
MOVPE,也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積), 針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路、5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、950度樣品臺三個(gè)氣體環(huán)、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空),*的安全互鎖。
目前,NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng),該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。
NMC-4000 MOVPE設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn):
臺式系統(tǒng)
5個(gè)帶獨(dú)立冷卻槽的起泡器
加熱的氣體管路
950 °C樣品臺,2"晶圓片
3個(gè)氣體環(huán)
RF等離子源,帶淋浴頭氣體分布
工藝完成后N2自動沖洗
極限真空5x10-7Torr
250 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動控制
菜單驅(qū)動,4級密碼訪問控制
完整的安全聯(lián)鎖
配置:
獨(dú)立系統(tǒng)
14"不銹鋼立方體腔體
1次在8"樣品臺上處理1個(gè)6"晶圓片或在12"樣品臺上處理5片4"片子
加熱的氣體管路
RF等離子源,自動調(diào)諧
淋浴頭氣體分布
1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺
N2沖洗
手動或自動的晶圓片上下載
可以兼容到集群配置中
應(yīng)用:
3到5族半導(dǎo)體層
藍(lán)色發(fā)光二極管
激光二極管
紫外-可見光譜光電中的氮化銦納米棒
3D或2D材料中的二硫化鉬、氮化硼、石墨烯