非線性光學(xué)材料在熒光標(biāo)記、生物成像、光限幅和光開關(guān)等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。Z-掃描系統(tǒng)是研究材料非線性光學(xué)特性的有效手段，具有測(cè)量速度快、靈敏度高(參見融石英和CS₂實(shí)例)和易維護(hù)等優(yōu)點(diǎn)。

金鎧儀器的Z-Scan非線性光學(xué)測(cè)試系統(tǒng)可用于測(cè)量分析高分子、有機(jī)材料、納米粒子和半導(dǎo)體等材料的光學(xué)非線性特性, 包括非線性吸收（飽和吸收和反飽和吸收）、非線性折射和克爾效應(yīng)等。 此外，針對(duì)不同尺度的復(fù)合納米粒子和微晶等材料，儀器的高靈敏性還適用于考察材料的形態(tài)、結(jié)構(gòu)和濃度對(duì)非線性光學(xué)特性的影響。

主要參數(shù)

1. 適用激光光源

納秒、皮秒、飛秒激光光源；使用波長(zhǎng)取決于用戶激光器

2. 樣品移動(dòng)模塊

（全系列標(biāo)配）移動(dòng)距離300 mm，移動(dòng)精度3.125μm

3. 適用樣品

溶液、薄膜；不同形態(tài)、尺寸和結(jié)構(gòu)的納米材料和微晶等

4. 光強(qiáng)范圍

取決于所搭配的激光光源的參數(shù)（時(shí)間寬度和束腰半徑等）

5. 探測(cè)系統(tǒng)

標(biāo)配快速響應(yīng)的高靈敏度探測(cè)器：上升時(shí)間約35ns @320-1100nm

6. 隨機(jī)程序

標(biāo)配數(shù)據(jù)自動(dòng)化采集和預(yù)處理程序

應(yīng)用實(shí)例

CS₂

融石英

某一鈣鈦礦材料開孔掃描和閉孔掃描的結(jié)果以及Ratio的曲線

其他可選配置

1. 激光光源

2. 光斑束腰半徑測(cè)量模塊

3. 完整數(shù)據(jù)處理軟件

4. 頻率選擇模塊

5. 光斑整形模塊

6. 光束指向穩(wěn)定性模塊

7. 基于用戶特定需求的設(shè)備升級(jí)