TASLimage 固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)
概述
TASLimage 是基于核徑跡分析技術(shù)發(fā)展的高性能全自動(dòng)圖像測(cè)量及分析系統(tǒng),用于測(cè)量及分析各類塑料徑跡探測(cè)器,例如TASTRAK(TASL 公司生產(chǎn))、CR39、PN3。系統(tǒng)的顯微鏡模塊采用了高質(zhì)量 Nikon 光學(xué)器件和超快 3D 機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng),保證了系統(tǒng)的高測(cè)量效率、高精度及低本底等優(yōu)異性能。系統(tǒng)適用于中子測(cè)量、氡濃度監(jiān)測(cè)、聚變研究、α粒子放射自顯影、鈾礦勘探、宇宙射線以及放射領(lǐng)域教學(xué)。
特點(diǎn)
• 全自動(dòng)聚焦,全自動(dòng)掃描點(diǎn)碼和蝕刻徑跡;
• 全自動(dòng)測(cè)讀批量探測(cè)器;
• 快速測(cè)讀,測(cè)讀時(shí)間為 30~60 秒(與參數(shù)設(shè)置相關(guān));
• 自動(dòng)修正探測(cè)器響應(yīng)衰退,保證探測(cè)器可用于 12 個(gè)月的長期監(jiān)測(cè);
• 高度精密的圖像分析技術(shù),可區(qū)分徑跡與本底特征;
• 全自動(dòng)本底評(píng)估(對(duì)每個(gè)探測(cè)器);
• 掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)轉(zhuǎn)換為中子劑量。
技術(shù)參數(shù)
• 探測(cè)器類型:PADC(聚丙烯二甘醇碳酸酯)
• 兼容品牌:TASTRAK,CR39,PN3 等,不限尺寸
• TASTRAK 規(guī)格:
常規(guī):0.5mm,0.75mm,1.0mm,1.5mm, 可定制:0.1~0.5mm,>1.5mm
• 本底徑跡:<20tracks/cm2
• 蝕刻數(shù)量:150 個(gè)或 294 個(gè),不銹鋼蝕刻架
• 蝕刻條件(TASTRAK):
氡:98℃,約 1 小時(shí);或 75℃,約 6 小時(shí);
中子:85℃,約 3 小時(shí)
• 識(shí)別徑跡密度:≥140tracks/mm2
• 探測(cè)限:
氡:5Bq/m3 ~15MBq/m3
中子:下限<0.25mSv
• 線性:
中子:優(yōu)于 5?,不窄于 0.1mSv - 600 mSv; 氡: 3 -6?(200-5000 Bq/m3)