一、 用途和特點(diǎn)
在金相試樣制備過程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經(jīng)過磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。MP-2金相試樣磨拋機(jī)采用雙盤式設(shè)計(jì),左盤為研磨盤,右盤為拋光盤,同時(shí)滿足了磨、拋光兩道工序的要求,可以兩人同時(shí)操作。殼體采用整體ABS吸塑,外觀新穎,具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點(diǎn),并自帶冷卻裝置,可以在磨拋時(shí)對試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗(yàn)室,是金相試樣磨拋的設(shè)備。
二、 技術(shù)參數(shù)
·研磨盤直徑:φ203mm(可定制φ230mm、φ250mm)轉(zhuǎn)速450r/min
·拋光盤直徑:φ203mm(可定制φ230mm、φ250mm)轉(zhuǎn)速600r/min
·輸入電壓:單相 220V 50Hz
·輸入功率:370W
·外形尺寸:730×765×320mm
·重 量:47Kg