反滲透純水設(shè)備采用的主要是反滲透技術(shù)，用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。一般可以將水的純化過(guò)程大致分為4大部，預(yù)處理（初級(jí)凈化）、反滲透（生產(chǎn)出純水）、離子交換和終端處理（生產(chǎn)出符合特殊要求的超純水）。

edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)

給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm

PH:5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

溫度：5-35℃

進(jìn)水壓力： 大為4kg/cm2(60psi)小為1.5kg/cm2(25psi)

雙級(jí)反滲透超純水設(shè)備 工業(yè)水處理設(shè)備

進(jìn)水條件

反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）

pH值：7.5—9

溫度：15℃--35℃

進(jìn)水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa

濃水進(jìn)水壓力：0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT)：0.02—0.2MPa
進(jìn)水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計(jì)）(推薦0 5ppm以下）
進(jìn)水有機(jī)物：TOC＜0.5ppm
進(jìn)水氧化劑：Cl2（活性）＜0.03ppm，O3（臭氧）＜0.02ppm
進(jìn)水重金屬離子：Fe、Mn、變價(jià)性金屬離子＜0.01ppm
進(jìn)水硅：SiO2＜0.5ppm
進(jìn)水總CO2：＜3ppm
進(jìn)水顆粒度：＜1μm

電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù)，通過(guò)不同數(shù)量的模塊搭配，可以滿足各種水處理要求。為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。

具有CE、UL、和CSA標(biāo)識(shí)，歐洲FDA衛(wèi)生認(rèn)證通過(guò)ISO900L:2000認(rèn)證能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ.cm的超純水。

EDI高純水設(shè)備特性

1、PLC全自動(dòng)控制，無(wú)需人工值守，節(jié)省人力成本

2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，且不會(huì)因?yàn)樵偕C(jī)

3、設(shè)備出水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定，能耗低，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低

4、關(guān)機(jī)時(shí)膜保護(hù)系統(tǒng)可自動(dòng)沖洗膜面污染物，延長(zhǎng)膜使用年限

5、結(jié)構(gòu)緊湊，占地小，大大節(jié)省了基建投資

工藝流程

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI超純水系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

雙級(jí)反滲透超純水設(shè)備 工業(yè)水處理設(shè)備