把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi),通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程,稱(chēng)為真空蒸發(fā)鍍膜,簡(jiǎn)稱(chēng)蒸發(fā)鍍膜或蒸鍍。
技術(shù)參數(shù):
1 本底真空10-7 Torr;
2 束源爐,坩堝,蒸發(fā)舟等;
3 石英晶振測(cè)量膜厚;
4 基片加熱溫度可選:300℃/500℃/850℃;
5 可配備離子束輔助沉積;
6 可配備快速進(jìn)樣室;
7 可與手套箱集成;
8 可根據(jù)用戶(hù)要求定制系統(tǒng);