鹵素試驗機 波散型XRF光譜儀原理
X熒光光譜儀主要由激發(fā)源（X射線管），探測系統(tǒng)和軟件系統(tǒng)構(gòu)成。
X射線管產(chǎn)生X射線（一次X射線），來激發(fā)被測樣品。受激發(fā)的樣品中每一種元素會放射出二次X射線（又叫X熒光），不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統(tǒng)測量放射出來的二次X射線的能量計數(shù)量或者波長，并且轉(zhuǎn)換成數(shù)字脈沖信號，軟件將探測系統(tǒng)所收集到的信息轉(zhuǎn)換成樣品中各種元素的種類及含量。
X射線熒光光譜儀，簡稱XRF，是一種物理的元素分析方法，具有快速，無損，多種元素同時分析，操作簡單，使用成本低等特殊技術(shù)優(yōu)勢，在電子，電器，珠寶，玩具，服裝，皮革，食品，建材，冶金，地礦，塑料，石油，化工，醫(yī)藥等行業(yè)發(fā)揮著重大的作用。
鹵素試驗機 波散型XRF應(yīng)用行業(yè)
科研院所，學(xué)校，檢測機構(gòu)；RoHS1.0,RoHS2.0,鹵素等環(huán)保行業(yè)；材料成分分析行業(yè)；電鍍鍍層厚度檢測行業(yè)；黃金，貴金屬行業(yè)
鹵素試驗機 熒光光譜儀
RoHS1.0和RoHS2.0具體的限定物質(zhì)和限定值以及檢測儀器
| 元素符號 | 中文名稱 | 限定值 | 檢測儀器 |
RoHS 1.0 | Pb | 鉛 | 0.1%（1000ppm） | XRF |
Hg | 汞 | 0.1%（1000ppm） | XRF | |
Cd | 鎘 | 0.1%（1000ppm） | XRF | |
Cr(VI) | 六價鉻 | 0.1%（1000ppm） | XRF+UV | |
PBB | 多溴聯(lián)苯 | 0.1%（1000ppm） | XRF+GCMS | |
PBDE | 多溴聯(lián)苯醚 | 0.1%（1000ppm） | XRF+GCMS | |
RoHS2.0新增加有機限定物 | DIBP | 領(lǐng)苯二甲酸二異丁酯 | 0.1%（1000ppm） | GCMS或LC |
DEHP | 領(lǐng)苯二甲酸（2-乙基）己酯 | 0.1%（1000ppm） | GCMS或LC | |
DBP | 領(lǐng)苯二甲酸二丁酯 | 0.1%（1000ppm） | GCMS或LC | |
BBP | 領(lǐng)苯二甲酸丁芐酯 | 0.1%（1000ppm） | GCMS或LC | |
無鹵指令（限定鹵素氯和溴） | Cl | 氯 | 0.09%（900ppm） | XRF |
Br | 溴 | 0.09%（900ppm） | XRF | |
Cl+Br | 氯和溴總量 | 0.09%（900ppm） | XRF |
CX-XRF-W7 RoHS檢測儀 鹵素試驗機 熒光光譜儀
專業(yè)RoHS指令有害元素和鹵素快速，無損檢測；一體機設(shè)計，內(nèi)置工業(yè)計算機和IPAD觸摸屏，無需另配電腦和顯示器。
標準配置：
1. 美國*電致冷Si-PINtanceqi
2. X射線光管模塊
3. 高低壓電源模塊
4. 多道分析模塊
5. 信噪比增強模塊
6. 集成IPAD觸摸屏
7. RoHS鹵素軟件系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù)：
測試范圍 | RoHS, 鹵素（硫S-鈾U之間的元素） |
可測試樣品的種類 | 固體，液體，粉末 |
檢出限 | ≤2ppm；精度：±0.05% |
測試時間 | 30-300s（可以任意調(diào)節(jié)） |
攝像定位系統(tǒng) | 800萬真像素高清定位系統(tǒng) |
X射線光管使用壽命 | ＞20000小時 |
探測器 | 美國Amptek公司*電致冷Si-PIN探測器； 分辨率 145ev±5ev |
高壓電源 | 0-50kev,0-2mA 50w |
準直濾光系統(tǒng) | X射線光斑大小直徑：φ1mm,φ3mm,φ5mm； 9種復(fù)合濾光系統(tǒng) |
工作環(huán)境溫/濕度 | 溫度15-30℃ 濕度 ≤75%（不結(jié)露） |
輸入電源 | AC220V±15% 50Hz |
額定功率 | 150W 重量 33kg |
儀器尺寸 | 670*400*330mm |
測試樣品腔尺寸 | 200*260*80mm |
