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XAU-4CS光譜分析儀

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  • 更新時間2023-04-02
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儀器簡介:XAU-4CS是一款設計結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度高的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設計,是一款一機多用型光譜儀
XAU-4CS光譜分析儀 產(chǎn)品詳情

儀器簡介:

XAU-4CS是一款設計結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度高的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設計,是一款一機多用型光譜儀。

應用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測厚儀jiance微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHSjiance及成分分析。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。


產(chǎn)品優(yōu)勢:

微小樣品jiance:zui小測量面積0.03mm2(加長測量時間可小zhi0.01mm2)

變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達0-30mm

自主研發(fā)的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元素,甚zhi有同種元素在不同層也jingque測量

*的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,jiangdi檢出限

高性能探測器:SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

光路系統(tǒng):微焦加強型射線管搭配聚焦、光路交換裝置

多準直器自動切換

應用領域:

廣泛應用于半導體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬jiance、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領域。


多元迭代EFP核心算法(號:2017SR567637)

zhuanye的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增qiangxiao應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及yuoji物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,diyi層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

有害元素jiance:RoHSjiance,可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價鉻(Cr VI)等有害元素的成分jiance及含量分析


技術(shù)參數(shù):

1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

2. 成分zui低檢出限:1ppm

3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

4. 涂鍍層zui低檢出限:0.005μm

5. zui小測量直徑□0.1*0.3mm(zui小測量面積0.03mm2)

標配:zui小測量直徑0.3mm(zui小測量面積0.07mm2)

6. 對焦距離:0-30mm

7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量:45KG

10. XY軸工作臺移動范圍:50mm*50mm

11. XY軸工作臺zui大承重:5KG


選擇一六儀器的四大理由:

1.一機多用,無損jiance(涂鍍層jiance-環(huán)保RoHS-成分分析)

2.zui小測量面積0.002mm2

3.可jiance凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素,重復鍍層,同種元素不同層亦可jiance


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