ASML KrF光刻機(jī)PAS5500/850C 248nm步進(jìn)-掃描系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)110nm的批量生產(chǎn)。自從PAS5500/850引入以來,PAS5500/850系列已經(jīng)成為110nm邏輯和110nm內(nèi)存應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)。PAS5500/850C可以配置許多選項(xiàng),使在制造中實(shí)現(xiàn)超低k1,擴(kuò)展PAS5500/850C的應(yīng)用遠(yuǎn)低于110nm。
主要功能和優(yōu)點(diǎn)
可變0.8-NA深紫外投影透鏡
生產(chǎn)分辨率低至110 nm。
天線II照明器
在吞吐量的照明模式下提供的靈活性。
PAS 5500步進(jìn)掃描車身
與i-line和193 nm Step和掃描工具的通用性,用于經(jīng)濟(jì)混合和匹配。
雅典娜高級校準(zhǔn)與十字線藍(lán)色校準(zhǔn)相結(jié)合
提高了各種工藝的對準(zhǔn)精度。隨著時(shí)間的推移,性能極為穩(wěn)定。
包括20 W KrF激光技術(shù)和可變激光頻率控制
將高激光功率與高效利用激光脈沖相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)高吞吐量
激光操作成本。
ARMS批量流式處理
提供連續(xù)流程制造
參數(shù)信息: